[发明专利]一种表面进行抗氧化保护的铜颗粒、低温烧结铜膏及使用其的烧结工艺有效
申请号: | 201910456166.7 | 申请日: | 2019-05-29 |
公开(公告)号: | CN110181041B | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 张卫红;刘旭;敖日格力;叶怀宇;张国旗 | 申请(专利权)人: | 深圳第三代半导体研究院 |
主分类号: | B22F1/02 | 分类号: | B22F1/02;B22F3/10;H01L23/488;H01L21/60 |
代理公司: | 北京华创智道知识产权代理事务所(普通合伙) 11888 | 代理人: | 彭随丽 |
地址: | 518051 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 表面 进行 氧化 保护 颗粒 低温 烧结 使用 工艺 | ||
1.一种表面经抗氧化保护的铜颗粒,其中,在该铜颗粒表面形成有机可焊接保护剂OSP的膜,该OSP的膜按OSP膜的整体质量计含有3.0-8.0质量%的二苯基对苯二胺(DPPD);所述铜颗粒平均粒径范围包括0.01μm-10μm;所述铜颗粒中的氧浓度为0.5质量%以下;所述铜颗粒的表面粗糙度Ra范围包括经微蚀的0.01-3μm;所述有机可焊接保护剂的成膜厚度为1-100nm;有机可焊接保护剂不含硫元素和卤素元素。
2.权利要求1所述的铜颗粒,其中,有机可焊接保护剂为苯并三氮唑、咪唑、苯并咪唑中的至少一种。
3.一种低温烧结铜膏,其由通过权利要求1至2的任一项所述的铜颗粒、高链接树脂、助焊剂以及任选的添加剂构成。
4.权利要求3所述的低温烧结铜膏,其中,高链接树脂为环氧树脂。
5.权利要求3或4所述的低温烧结铜膏,其为预制低温烧结铜膜的形式。
6.一种低温烧结铜膏的烧结工艺,其包括:将权利要求3至5的任一项所述的低温烧结铜膏涂覆在基板与被连接对象之间,在180-250℃及包含大气气氛或非活性气氛下进行加热,烧结固化。
7.权利要求6所述的烧结工艺,其中,在施加0-20MPa的压力下进行加热。
8.权利要求6或7所述的烧结工艺,其中,通过丝网印刷实施上述涂覆。
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