[发明专利]一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台

权利要求书

1.一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台，其特征在于：包括：激光刻写仪器(900)，用于在待刻写玻璃刻写光栅尺；

X轴粗动直线轴(100)，用于光栅尺刻写时，使玻璃在X轴方向上做扫描运动；

RZ微动旋转轴(200)，安装于X轴粗动直线轴(100)上，用于对X轴粗动直线轴(100)运动产生的误差进行补偿，使玻璃始终相对于X轴是平行水平运动的。

Y轴粗动轴(300)，用于光栅尺刻写时，带动激光刻写仪器(900)进行运动；

RXYZ微动轴(400)，安装在Y轴粗动轴(300)的正中央，且激光刻写仪器(900)安装在RXYZ微动轴(400)的正中央，用于对X轴粗动直线轴(100)、Y轴粗动轴(300)运动产生的误差进行补偿，带动激光刻写仪(900)进行对焦。

2.根据权利要求1所述的一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台，其特征在于：还包括激光干涉仪定位系统(800)，将X轴粗动直线轴(100)、Y轴粗动轴(300)的定位误差反馈给RZ微动旋转轴(200)、RXYZ微动轴(400)。

3.根据权利要求2述的一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台，其特征在于：还包括平面反射镜(203)，用于检测X轴粗动直线轴(100)在X轴方向运动的PITCH值与YAW值误差；配合激光干涉仪定位系统(800)，将误差值反馈至RZ微动旋转轴(200)、RXYZ微动轴(400)。

4.根据权利要求1述的一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台，其特征在于：RZ微动旋转轴(200)包括真空吸附板(204)，用于吸附待刻写玻璃。

5.根据权利要求1述的一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台，其特征在于：还包括大理石基座(500)，大理石基座(500)上设置有多组X轴气浮块导轨(501)，X轴粗动直线轴(100)与X轴气浮块导轨(501)滑动配合。

6.根据权利要求5述的一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台，其特征在于：还包括大理石横梁(600)，大理石横梁(600)通过大理石横梁立柱601架设在大理石基座(500)上，大理石横梁(600)与Y轴粗动轴(300)滑动配合。

7.根据权利要求5所述的一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台，其特征在于：还包括多个气囊减震器(700)，大理石基座(500)放置于气囊减震器(700)上方。