[发明专利]一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台

说明书

一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台，包括：激光刻写仪器，用于在待刻写玻璃刻写光栅尺；X轴粗动直线轴，用于光栅尺刻写时，使玻璃在X轴方向上做扫描运动；RZ微动旋转轴，安装于X轴粗动直线轴上，用于对X轴粗动直线轴运动产生的误差进行补偿；Y轴粗动轴，用于光栅尺刻写时，带动激光刻写仪器进行运动；RXYZ微动轴，用于对X轴粗动直线轴、Y轴粗动轴运动产生的误差进行补偿，使用了光栅尺与激光干涉仪相结合的反馈方式，使得平台自身的精度大大提高了；且增加了XY方向上的行程，使得生产的光栅尺长度增加了；X轴、RZ轴、Y轴、RXYZ的结合，可以消除平台自身的误差，提高了生产的光栅尺的精度等级。

技术领域

本发明主要涉及大尺寸激光直写运动平台领域，尤其涉及一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台。

背景技术

现用于光栅尺刻写的运动平台受限于其尺寸和性能，使得其刻写出来的光栅尺的性能和长度已经渐渐落后于时代，所以，生产一种大尺寸、高精度的运动平台来满足精度不断升级的光栅尺刻写需求已显得尤为必要。

已授权中国发明专利，申请号CN201410370836.0，专利名称：一种用于激光直写曝光机的自动升降的Z轴装置，申请日：20140730，涉及一种长光栅微密线纹测量系统及方法，系统主要包括运动台(14)、激光干涉测长子系统(13)、信号处理及结果显示子系统和光电显微镜子系统(11)。其关键技术特征为测量信号的高速同步采集以及干涉测长电信号与刻线电信号的关联处理，以消除测量速度对于测量结果的影响。稳频激光源作为干涉光源使得测量结果可以直接溯源到激光标准波长，提高了测量精度。采用双向测量、数据拼接的方法解决了长工作距离下显微镜低倍率时起始端刻线信号失真致单向无法完成测量的问题，测量是运动台运动下的动态扫描测量，可以实现快速测量，有效解决了尺寸达几百毫米较大长度的长光栅微密线纹的测量问题。

发明内容

本发明提供一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台，包括：激光刻写仪器900，用于在待刻写玻璃刻写光栅尺；

X轴粗动直线轴100，用于光栅尺刻写时，使玻璃在X轴方向上做扫描运动；

RZ微动旋转轴200，安装于X轴粗动直线轴100上，用于对X轴粗动直线轴100运动产生的误差进行补偿，使玻璃始终相对于X轴是平行水平运动的。

Y轴粗动轴300，用于光栅尺刻写时，带动激光刻写仪器900进行运动；

RXYZ微动轴400，安装在Y轴粗动轴300的正中央，且激光刻写仪器900安装在RXYZ微动轴400的正中央，用于对X轴粗动直线轴100、Y轴粗动轴300运动产生的误差进行补偿，带动激光刻写仪900进行对焦。

优选的，还包括激光干涉仪定位系统800，将X轴粗动直线轴100、Y轴粗动轴300的定位误差反馈给RZ微动旋转轴200、RXYZ微动轴400。

优选的，还包括平面反射镜203，用于检测X轴粗动直线轴100在X轴方向运动的PITCH值与YAW值误差；配合激光干涉仪定位系统800，将误差值反馈至RZ微动旋转轴200、RXYZ微动轴400。

优选的，RZ微动旋转轴200包括真空吸附板204，用于吸附待刻写玻璃。

优选的，还包括大理石基座500，大理石基座500上设置有多组X轴气浮块导轨501，X轴粗动直线轴100与X轴气浮块导轨501滑动配合。

优选的，还包括大理石横梁600，大理石横梁600通过大理石横梁立柱601架设在大理石基座500上，大理石横梁600与Y轴粗动轴300滑动配合。

优选的，还包括多个气囊减震器700，大理石基座500放置于气囊减震器700上方。