[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201910739050.4 申请日: 2019-08-12
公开(公告)号: CN111613675A 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 大野哲也;加藤浩朗;小林研也;西口俊史;下村纱矢 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/40;H01L29/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 牛玉婷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,具备:

第1电极;

第1导电型的第1半导体区域,设置于上述第1电极的上方,并与上述第1电极电连接;

第2导电型的多个第2半导体区域,设置于上述第1半导体区域的上方;

第1导电型的多个第3半导体区域,分别选择性地设置于上述多个第2半导体区域的上方;

第1导电部,隔着第1绝缘部而设置于上述第1半导体区域中;

栅极电极,设置于上述第1导电部及上述第1绝缘部的上方,并与上述第1导电部分离;以及

第2电极,设置于上述多个第2半导体区域及上述多个第3半导体区域的上方,并与上述多个第2半导体区域、上述多个第3半导体区域及上述第1导电部电连接,

上述栅极电极具有:

第1电极部分,在与从上述第1电极朝向上述第1半导体区域的第2方向垂直的第1方向上,与上述第1半导体区域的一部分、上述多个第2半导体区域中的一个第2半导体区域及上述多个第3半导体区域中的一个第3半导体区域隔着第1栅极绝缘部而对置;和

第2电极部分,在上述第1方向上位于上述第1电极部分与上述多个第3半导体区域中的另一个第3半导体区域之间,并与上述第1半导体区域中的另一部分、上述多个第2半导体区域中的另一个第2半导体区域及上述多个第3半导体区域中的上述另一个第3半导体区域隔着第2栅极绝缘部而对置,

在上述第1电极部分与上述第2电极部分之间,设置有包含空隙的第2绝缘部。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

还具备第2导电部,

该第2导电部设置于上述第2绝缘部中,并与上述第1导电部及上述栅极电极分离。

3.根据权利要求2所述的半导体装置,其中,

上述第2导电部与上述第2电极电连接。

4.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第2绝缘部具有:

包含上述空隙的第1绝缘部分;以及

第2绝缘部分,在与上述第1方向及上述第2方向垂直的第3方向上与上述第1绝缘部分并排,且不包含上述空隙。

5.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

还具备第2导电部,该第2导电部设置于上述第2绝缘部中,并与上述第1导电部及上述栅极电极分离,

上述第2绝缘部具有:

包含上述空隙的第1绝缘部分;以及

第3绝缘部分,在与上述第1方向及上述第2方向垂直的第3方向上与上述第1绝缘部分并排,包含上述第2导电部,且不包含上述空隙。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的半导体装置,其中,

上述栅极电极还具有第3电极部分,该第3电极部分设置于上述第2绝缘部的上方,

上述第3电极部分与上述第1电极部分的上部及上述第2电极部分的上部连接。

7.根据权利要求1~5中任一项所述的半导体装置,其中,

上述第2绝缘部包含杂质,

上述第2绝缘部中的杂质浓度比上述第1绝缘部中的杂质浓度高。

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