[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 201910739050.4 | 申请日: | 2019-08-12 |
公开(公告)号: | CN111613675A | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 大野哲也;加藤浩朗;小林研也;西口俊史;下村纱矢 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/40;H01L29/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 牛玉婷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
1.一种半导体装置,具备:
第1电极;
第1导电型的第1半导体区域,设置于上述第1电极的上方,并与上述第1电极电连接;
第2导电型的多个第2半导体区域,设置于上述第1半导体区域的上方;
第1导电型的多个第3半导体区域,分别选择性地设置于上述多个第2半导体区域的上方;
第1导电部,隔着第1绝缘部而设置于上述第1半导体区域中;
栅极电极,设置于上述第1导电部及上述第1绝缘部的上方,并与上述第1导电部分离;以及
第2电极,设置于上述多个第2半导体区域及上述多个第3半导体区域的上方,并与上述多个第2半导体区域、上述多个第3半导体区域及上述第1导电部电连接,
上述栅极电极具有:
第1电极部分,在与从上述第1电极朝向上述第1半导体区域的第2方向垂直的第1方向上,与上述第1半导体区域的一部分、上述多个第2半导体区域中的一个第2半导体区域及上述多个第3半导体区域中的一个第3半导体区域隔着第1栅极绝缘部而对置;和
第2电极部分,在上述第1方向上位于上述第1电极部分与上述多个第3半导体区域中的另一个第3半导体区域之间,并与上述第1半导体区域中的另一部分、上述多个第2半导体区域中的另一个第2半导体区域及上述多个第3半导体区域中的上述另一个第3半导体区域隔着第2栅极绝缘部而对置,
在上述第1电极部分与上述第2电极部分之间,设置有包含空隙的第2绝缘部。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
还具备第2导电部,
该第2导电部设置于上述第2绝缘部中,并与上述第1导电部及上述栅极电极分离。
3.根据权利要求2所述的半导体装置,其中,
上述第2导电部与上述第2电极电连接。
4.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
上述第2绝缘部具有:
包含上述空隙的第1绝缘部分;以及
第2绝缘部分,在与上述第1方向及上述第2方向垂直的第3方向上与上述第1绝缘部分并排,且不包含上述空隙。
5.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
还具备第2导电部,该第2导电部设置于上述第2绝缘部中,并与上述第1导电部及上述栅极电极分离,
上述第2绝缘部具有:
包含上述空隙的第1绝缘部分;以及
第3绝缘部分,在与上述第1方向及上述第2方向垂直的第3方向上与上述第1绝缘部分并排,包含上述第2导电部,且不包含上述空隙。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的半导体装置,其中,
上述栅极电极还具有第3电极部分,该第3电极部分设置于上述第2绝缘部的上方,
上述第3电极部分与上述第1电极部分的上部及上述第2电极部分的上部连接。
7.根据权利要求1~5中任一项所述的半导体装置,其中,
上述第2绝缘部包含杂质,
上述第2绝缘部中的杂质浓度比上述第1绝缘部中的杂质浓度高。
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