[发明专利]光学扫描装置和图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201910751276.6 申请日: 2019-08-15
公开(公告)号: CN110850589B 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 寺村昌泰;宫岛悠 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;G02B26/12;G02B27/00;H04N1/00;H04N1/04
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 汪晶晶
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 扫描 装置 图像 形成
【权利要求书】:

1.一种光学扫描装置,其特征在于,包括:

第一偏转单元和第二偏转单元,被配置为通过分别偏转第一光束和第二光束而在主扫描方向上扫描第一扫描表面和第二扫描表面;以及

第一成像光学系统和第二成像光学系统,被配置为将由第一偏转单元和第二偏转单元偏转的第一光束和第二光束分别引导到第一扫描表面和第二扫描表面,其中

第一成像光学系统和第二成像光学系统分别包括第一成像元件和第二成像元件,每个成像元件在第一成像光学系统和第二成像光学系统中的对应一个中在包括光轴并垂直于主扫描方向的副扫描截面中具有最大的折光力,

光路上从第一偏转单元的偏转表面上的轴向偏转点到第一成像元件的距离短于光路上从第二偏转单元的偏转表面上的轴向偏转点到第二成像元件的距离,以及

满足以下条件:

其中N1、d1、φ1和φ11分别表示第一成像元件的折射率、光轴上的厚度、副扫描截面中的折光力以及入射表面的副扫描截面中的折光力,并且N2、d2、φ2和φ21分别表示第二成像元件的折射率、光轴上的厚度、副扫描截面中的折光力以及入射表面的副扫描截面中的折光力。

2.根据权利要求1所述的光学扫描装置,其中第一光束和第二光束在副扫描截面中分别垂直入射在第一偏转单元和第二偏转单元的偏转表面上。

3.一种光学扫描装置,其特征在于,包括:

偏转单元,被配置为通过偏转第一光束和第二光束而在主扫描方向上扫描第一扫描表面和第二扫描表面;以及

第一成像光学系统和第二成像光学系统,被配置为将由偏转单元偏转的第一光束和第二光束分别引导到第一扫描表面和第二扫描表面,其中

在包括光轴并垂直于主扫描方向的副扫描截面中,第一光束和第二光束以彼此不同的角度入射在偏转单元的第一偏转表面上,

第一成像光学系统和第二成像光学系统分别包括第一成像元件和第二成像元件,每个成像元件在第一成像光学系统和第二成像光学系统中的对应一个中在副扫描截面中具有最大的折光力,

光路上从第一偏转表面上的轴向偏转点到第一成像元件的距离短于光路上从第一偏转表面上的轴向偏转点到第二成像元件的距离,以及

满足以下条件:

其中N1、d1、φ1和φ11分别表示第一成像元件的折射率、光轴上的厚度、副扫描截面中的折光力以及入射表面的副扫描截面中的折光力,并且N2、d2、φ2和φ21分别表示第二成像元件的折射率、光轴上的厚度、副扫描截面中的折光力以及入射表面的副扫描截面中的折光力。

4.根据权利要求3所述的光学扫描装置,还包括:

第三成像光学系统和第四成像光学系统,被配置为将由偏转单元偏转的第三光束和第四光束分别引导到第三扫描表面和第四扫描表面,其中

偏转单元通过分别偏转第三光束和第四光束而在主扫描方向上扫描第三扫描表面和第四扫描表面,

在副扫描截面中,第三光束和第四光束以彼此不同的角度入射在偏转单元的第二偏转表面上,

第三成像光学系统和第四成像光学系统分别包括第三成像元件和第四成像元件,每个成像元件在第三成像光学系统和第四成像光学系统中的对应一个中在副扫描截面中具有最大的折光力,

光路上从第二偏转表面上的轴向偏转点到第三成像元件的距离短于光路上从第二偏转表面上的轴向偏转点到第四成像元件的距离,以及

满足以下条件:

其中N3、d3、φ3和φ31分别表示第三成像元件的折射率、光轴上的厚度、副扫描截面中的折光力以及入射表面的副扫描截面中的折光力,并且N4、d4、φ4和φ41分别表示第四成像元件的折射率、光轴上的厚度、副扫描截面中的折光力以及入射表面的副扫描截面中的折光力。

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