[发明专利]阵列基板和显示面板有效
| 申请号： | 201910767787.7 | 申请日： | 2019-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN110610961B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 周阳 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32;G09F9/33 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阵列 显示 面板 | ||
1.一种阵列基板，定义有弯折区和非弯折区，所述非弯折区包括
柔性衬底层；
复合缓冲层，位于所述柔性衬底层上；
源漏极层，位于所述复合缓冲层上；
平坦层，位于所述源漏极层上；以及
像素定义层，位于所述平坦层上；
其特征在于，所述弯折区包括
所述柔性衬底层；
所述源漏极层，位于所述柔性衬底层上；
所述平坦层，位于所述源漏极层上；以及
所述像素定义层，位于所述平坦层上；
其中，所述非弯折区还包括有一有机层，所述有机层邻近所述弯折区，所述有机层的一部分覆盖所述复合缓冲层而另一部分形成于所述柔性衬底层上。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述源漏极层覆盖所述有机层。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述有机层的材料包括氧化脱氢有机物、聚酰亚胺树脂或硅氧烷。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
所述复合缓冲层，包括
缓冲层，位于所述柔性衬底层上；以及
屏障层，位于所述缓冲层上；
其中所述源漏极层位于所述屏障层上。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述柔性衬底层的材料为聚酰亚胺。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素定义层上还包括支撑层。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，位于所述非弯折区的所述像素定义层上还包括发光层。
8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，位于所述弯折区的所述复合缓冲层的厚度小于位于所述非弯折区的所述复合缓冲层的厚度。
9.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的阵列基板。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
