[发明专利]一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法在审
申请号: | 201910807147.4 | 申请日: | 2019-08-29 |
公开(公告)号: | CN110499500A | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 王萌;张恩明;杨丽;刘冬生 | 申请(专利权)人: | 讯创(天津)电子有限公司 |
主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18;C23C18/40;C23C18/36;C23C18/44;H01Q1/38 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300000 天津市西青区*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 手机天线 镭雕 三维 镭射 无机非金属材料 对手机天线 化镀金属层 无机非金属 析出 区域覆盖 致密表面 化学镀 激光机 金属层 活化 基板 敏化 走线 制作 | ||
1.一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,其特征在于,主要包括如下步骤:
(1)镭射:激光机镭射在无机非金属基板上,表面刻蚀出5G三维手机天线电路走线磨砂面微粒粗糙状结构的镭雕区域;
(2)活化:镭射后的基板浸入金属胶体活化液中活化,还原出的金属微粒紧附于镭雕区域表面,镭雕区域表面生成金属核,并形成具有均匀催化结晶中心的表面金属层;
(3)脱胶:活化后的基板浸入酸液中脱胶,露出具有催化活性的表面金属层;
(4)化镀:脱胶后的基板浸入化镀液中,在镭雕区域化镀生成若干化镀金属层。
2.根据权利要求1所述一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,其特征在于,所述非金属基板为玻璃基板或陶瓷基板中的一种。
3.根据权利要求1所述一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,其特征在于,所述金属胶体为胶体银或胶体钯中的一种。
4.根据权利要求1所述一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,其特征在于,还包括敏化步骤,所述敏化步骤的敏化液为氯化亚锡溶液,该敏化步骤可设置在步骤(3)之前,或者与步骤(3)同时进行。
5.按照权利要求1所述一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,其特征在于,步骤(1)中镭射用激光波长为300nm-1100nm,优选为355nm。
6.按照权利要求1所述一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,其特征在于,所述步骤(4)中的化镀金属层由内至外为铜层、镍层。
7.按照权利要求1所述一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,其特征在于,所述步骤(4)中的化镀金属层由内至外为铜层、镍层和金层。
8.按照权利要求1所述一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,其特征在于,所述步骤(4)中的化镀金属层为铜层,该铜层厚度为10-14μm。
9.按照权利要求1所述一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,其特征在于,所述步骤(4)中的化镀金属层为镍层,该镍层厚度为1-4μm。
10.按照权利要求1所述一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,其特征在于,所述步骤(4)中的化镀金属层为金层,该金层厚度为0.05-0.1μm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理