[发明专利]一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法在审
申请号: | 201910807147.4 | 申请日: | 2019-08-29 |
公开(公告)号: | CN110499500A | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 王萌;张恩明;杨丽;刘冬生 | 申请(专利权)人: | 讯创(天津)电子有限公司 |
主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18;C23C18/40;C23C18/36;C23C18/44;H01Q1/38 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300000 天津市西青区*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 手机天线 镭雕 三维 镭射 无机非金属材料 对手机天线 化镀金属层 无机非金属 析出 区域覆盖 致密表面 化学镀 激光机 金属层 活化 基板 敏化 走线 制作 | ||
本发明的目的在于提供一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,通过在无机非金属表面上,用激光机镭射5G三维手机天线分布走线,经过敏化活化在镭雕区域析出致密表面金属层,经过化镀,在镭雕区域覆盖上化镀金属层,镭射过的基板上化学镀出5G三维手机天线形状,以达到5G对手机天线要求的性能指标。
技术领域
本发明涉及一种5G手机天线的制作方法,特别是涉及一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,光滑的无机非金属表面经过激光三维度立体扫描,再经胶体银或者钯活化剂溶液活化,最后结合化学镀金属的方法,使无机非金属表面镭射过的地方的发生物理、化学变化,从而改变其属性达到无机非金属表面制作电子走线的目的。通过这种方法可以在光滑的无机非金属表面制作的导电线路,此法适用于无机非金属基板的所有电子走线部件。
背景技术
通信技术的发展,使得终端设备上天线数量越来越多;由于金属材料对天线信号的屏蔽阻碍,全金属机身的设计已经不能满足5G(第五代移动通信)天线的发展需求,特别是MIMO(多输入多输出)天线及毫米波天线。采用无机非金属(如玻璃、陶瓷等)后盖将是5G手机发展趋势,但是目前还未有在玻璃基板上设计天线的方法。
本发明即是在上述技术问题的基础上进行的改进。
发明内容
为了解决背景技术中的问题,本发明提供一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,通过在无机非金属表面上,用激光机镭射5G三维手机天线分布走线,经过在化学镀溶液中浸泡,激光镭射表面析出致密金属层,镭射的走线形状被覆盖上化学镀金属层,镭射过的无机非金属基板化学镀出5G三维手机天线形状,达到手机天线要求的性能指标。
为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:
一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,主要包括如下步骤:
(1)镭射:激光机镭射在无机非金属基板上,表面刻蚀出5G三维手机天线电路走线磨砂面微粒粗糙状结构的镭雕区域;
(2)活化:镭射后的基板浸入金属胶体活化液中活化,还原出的金属微粒紧附于镭雕区域表面,镭雕区域表面生成金属核,并形成具有均匀催化结晶中心的表面金属层;
(3)脱胶:活化后的基板浸入酸液中脱胶,露出具有催化活性的表面金属层;
(4)化镀:脱胶后的基板浸入化镀液中,在镭雕区域化镀生成若干化镀金属层。
进一步,所述非金属基板为玻璃基板或陶瓷基板中的一种。
进一步,所述金属胶体为胶体银或胶体钯中的一种。
进一步,还包括敏化步骤,所述敏化步骤的敏化液为氯化亚锡溶液,该敏化步骤可设置在步骤(3)之前,或者与步骤(3)同时进行。
进一步,步骤(1)中镭射用激光波长为300nm-1100nm,优选为355nm。
进一步,所述步骤(4)中的化镀金属层由内至外为铜层、镍层。
进一步,所述步骤(4)中的化镀金属层由内至外为铜层、镍层和金层。
进一步,所述步骤(4)中的化镀金属层为铜层,该铜层厚度为10-14μm。
进一步,所述步骤(4)中的化镀金属层为镍层,该镍层厚度为1-4μm。
进一步,所述步骤(4)中的化镀金属层为金层,该金层厚度为0.05-0.1μm。
本发明的一种无机非金属材料5G三维镭雕手机天线的制作方法,具有如下有益效果:
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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