[发明专利]一种具有纳米共晶片层结构的铁磁性形状记忆合金

权利要求书

1.一种具有纳米共晶片层结构的铁磁性形状记忆合金，其特征在于：

所述铁磁性形状记忆合金的化学式为Ni_51.5Mn₃₄Fe₆Sn_8.5；

所述铁磁性形状记忆合金的显微组织为Heusler基相/γ相的纳米共晶片层结构，γ相片层的平均厚度为250nm，平均片层间距为372nm；

所述铁磁性形状记忆合金的合金断裂强度为1645.25MPa；

所述铁磁性形状记忆合金的断裂应变为15.18％；

所述铁磁性形状记忆合金的马氏体相变温度为303K。

2.权利要求1所述具有纳米共晶片层结构的铁磁性形状记忆合金的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

1)按照Ni_51.5Mn₃₄Fe₆Sn_8.5合金的原子百分比组成，将Ni源、Mn源、Fe源和Sn源混合，放入金属熔炼炉中；

2)在惰性气体保护下进行熔炼，得到具有纳米共晶片层结构的Ni_51.5Mn₃₄Fe₆Sn_8.5铁磁性形状记忆合金。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：步骤1)中，所述Ni源、Mn源、Fe源和Sn源分别选自各自金属的颗粒或者块状固体原料。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：步骤1)中，所述Ni源、Mn源、Fe源和Sn源各自金属元素的纯度≥99.99wt％。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的制备方法，其特征在于：所述步骤1)中还包括如下步骤：补加占Ni源、Mn源、Fe源和Sn源总质量0.3％～1％的Mn源。

6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：步骤2)中，所述惰性气体为氩气。

7.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：步骤2)中，熔炼具体是反复熔炼3～5遍，每遍熔炼的时间为4min～6min。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：步骤2)中，熔炼的电流为70A～90A。