[发明专利]晶体管器件在审
申请号: | 201910875466.9 | 申请日: | 2019-09-17 |
公开(公告)号: | CN110911473A | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
发明(设计)人: | F.希尔勒;C.A.布拉茨;G.内鲍尔;M.H.维莱迈尔 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技奥地利有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/40 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张凌苗;申屠伟进 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶体管 器件 | ||
1.一种晶体管器件,其包括:
在半导体本体(100)中,漂移区(11)、本体区(12)和通过本体区(12)与漂移区(11)分离并连接到源极节点(S)的源极区(13);
栅电极(21),通过栅极电介质(22)与本体区(12)介电绝缘;以及
场电极结构(3),其包括:
第一场电极(31),连接到源极节点(S)并通过第一场电极电介质(33)与漂移区(11)介电绝缘;
第二场电极(32),通过第二场电极电介质(33)与漂移区(11)介电绝缘;以及
耦合电路(4),连接在第二场电极(32)和源极节点(S)之间,并且被配置成根据源极节点(S)和第二场电极(32)之间的电压将第二场电极(32)连接到源极节点(S)。
2.根据权利要求1所述的晶体管器件,
其中,耦合电路(4)被配置为根据源极节点(S)和第二场电极(32)之间的电压将第二场电极(32)连接到源极节点(S)包括耦合电路(4)被配置为当源极节点(S)和第二场电极(32)之间的电压超过预定义电压阈值时将第二场电极(32)连接到源极节点。
3.根据权利要求2所述的晶体管器件,
其中,耦合电路(4)包括连接在第二场电极(32)和源极节点(S)之间的齐纳二极管(41)。
4. 根据权利要求2或3所述的晶体管器件,
其中,晶体管器件具有电压阻断能力,和
其中,电压阈值在电压阻断能力的5%和20%之间或在5V和15V之间。
5.根据权利要求1所述的晶体管器件,
其中,耦合电路(4)被配置为根据源极节点(S)和第二场电极(32)之间的电压将第二场电极(32)连接到源极节点(S)包括耦合电路(4)被配置为当源极节点(S)和第二场电极(32)之间的电压的上升速率超过预定义速率阈值时将第二场电极(32)连接到源极节点。
6.根据权利要求5所述的晶体管器件,
其中,耦合电路(4)包括连接在第二场电极(32)和源极节点(S)之间的晶闸管(42)。
7.根据前述权利要求中任一项所述的晶体管器件,其中,耦合电路(4)经第一场电极(31)连接到源极节点(S)。
8.根据前述权利要求中任一项所述的晶体管器件,还包括:
与本体区(12)间隔开的漏极区(14),
其中,第二场电极(32)比第一场电极更靠近漏极区(14)定位。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的晶体管器件,
其中,栅电极(21)和至少第一场电极(31)以及第二场电极(32)布置在延伸到半导体本体(100)中的相同沟槽中。
10.根据权利要求1至8中任一项所述的晶体管器件,
其中,栅电极(21)布置在延伸到半导体本体(100)中的一个沟槽中,并且第一场电极(31)和第二场电极(32)布置在延伸到半导体本体(100)中的另一沟槽中。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的晶体管器件,
其中,耦合电路(4)、第一场电极(31)和第二场电极(32)布置在延伸到半导体本体(100)中的相同沟槽中。
12.根据权利要求3和11所述的晶体管器件,
其中齐纳二极管(41)包括:
邻接第一场电极(31)的第一掺杂类型的第一掺杂半导体区(411);和
邻接第二场电极(31)并与第一掺杂半导体区(411)形成齐纳结的第二掺杂类型的第二掺杂半导体区(412)。
13.根据权利要求12所述的晶体管器件,其中第一和第二场电极(31,32)中的至少一个包括金属。
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