[发明专利]晶体管器件在审

专利信息
申请号: 201910875466.9 申请日: 2019-09-17
公开(公告)号: CN110911473A 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: F.希尔勒;C.A.布拉茨;G.内鲍尔;M.H.维莱迈尔 申请(专利权)人: 英飞凌科技奥地利有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/40
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张凌苗;申屠伟进
地址: 奥地利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶体管 器件
【权利要求书】:

1.一种晶体管器件,其包括:

在半导体本体(100)中,漂移区(11)、本体区(12)和通过本体区(12)与漂移区(11)分离并连接到源极节点(S)的源极区(13);

栅电极(21),通过栅极电介质(22)与本体区(12)介电绝缘;以及

场电极结构(3),其包括:

第一场电极(31),连接到源极节点(S)并通过第一场电极电介质(33)与漂移区(11)介电绝缘;

第二场电极(32),通过第二场电极电介质(33)与漂移区(11)介电绝缘;以及

耦合电路(4),连接在第二场电极(32)和源极节点(S)之间,并且被配置成根据源极节点(S)和第二场电极(32)之间的电压将第二场电极(32)连接到源极节点(S)。

2.根据权利要求1所述的晶体管器件,

其中,耦合电路(4)被配置为根据源极节点(S)和第二场电极(32)之间的电压将第二场电极(32)连接到源极节点(S)包括耦合电路(4)被配置为当源极节点(S)和第二场电极(32)之间的电压超过预定义电压阈值时将第二场电极(32)连接到源极节点。

3.根据权利要求2所述的晶体管器件,

其中,耦合电路(4)包括连接在第二场电极(32)和源极节点(S)之间的齐纳二极管(41)。

4. 根据权利要求2或3所述的晶体管器件,

其中,晶体管器件具有电压阻断能力,和

其中,电压阈值在电压阻断能力的5%和20%之间或在5V和15V之间。

5.根据权利要求1所述的晶体管器件,

其中,耦合电路(4)被配置为根据源极节点(S)和第二场电极(32)之间的电压将第二场电极(32)连接到源极节点(S)包括耦合电路(4)被配置为当源极节点(S)和第二场电极(32)之间的电压的上升速率超过预定义速率阈值时将第二场电极(32)连接到源极节点。

6.根据权利要求5所述的晶体管器件,

其中,耦合电路(4)包括连接在第二场电极(32)和源极节点(S)之间的晶闸管(42)。

7.根据前述权利要求中任一项所述的晶体管器件,其中,耦合电路(4)经第一场电极(31)连接到源极节点(S)。

8.根据前述权利要求中任一项所述的晶体管器件,还包括:

与本体区(12)间隔开的漏极区(14),

其中,第二场电极(32)比第一场电极更靠近漏极区(14)定位。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的晶体管器件,

其中,栅电极(21)和至少第一场电极(31)以及第二场电极(32)布置在延伸到半导体本体(100)中的相同沟槽中。

10.根据权利要求1至8中任一项所述的晶体管器件,

其中,栅电极(21)布置在延伸到半导体本体(100)中的一个沟槽中,并且第一场电极(31)和第二场电极(32)布置在延伸到半导体本体(100)中的另一沟槽中。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的晶体管器件,

其中,耦合电路(4)、第一场电极(31)和第二场电极(32)布置在延伸到半导体本体(100)中的相同沟槽中。

12.根据权利要求3和11所述的晶体管器件,

其中齐纳二极管(41)包括:

邻接第一场电极(31)的第一掺杂类型的第一掺杂半导体区(411);和

邻接第二场电极(31)并与第一掺杂半导体区(411)形成齐纳结的第二掺杂类型的第二掺杂半导体区(412)。

13.根据权利要求12所述的晶体管器件,其中第一和第二场电极(31,32)中的至少一个包括金属。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技奥地利有限公司,未经英飞凌科技奥地利有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910875466.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top