[发明专利]鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法

权利要求书

1.一种具有式(1)的鎓盐：

其中，R¹、R²和R³各自独立地为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、叔戊基、正戊基、正己基、正辛基、正壬基、正癸基、环戊基、环己基、2-乙基己基、环戊基甲基、环戊基乙基、环戊基丁基、环己基甲基、环己基乙基、环己基丁基、降冰片基、三环[5.2.1.0^2,6]癸基、金刚烷基、金刚烷基甲基、苯基、萘基或蒽基，Z⁺为锍阳离子。

2.一种抗蚀剂组合物，包含：(A)具有式(1)的鎓盐、(B)有机溶剂、(C)包含含有酸不稳定基团的重复单元的聚合物、和(D)光酸产生剂，

其中，R¹、R²和R³各自独立地为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、叔戊基、正戊基、正己基、正辛基、正壬基、正癸基、环戊基、环己基、2-乙基己基、环戊基甲基、环戊基乙基、环戊基丁基、环己基甲基、环己基乙基、环己基丁基、降冰片基、三环[5.2.1.0^2,6]癸基、金刚烷基、金刚烷基甲基、苯基、萘基或蒽基，Z⁺为锍、碘鎓或铵阳离子。

3.根据权利要求2所述的抗蚀剂组合物，其中含有酸不稳定基团的重复单元具有式(a1)或(a2)：

其中R^A各自独立地为氢、氟、甲基或三氟甲基；Z^A为单键、亚苯基、亚萘基或(主链)-C(＝O)-O-Z^A1-，Z^A1为任选含有羟基、醚键、酯键或内酯环的C₁-C₁₀直链、支链或环状烷烃二基，或为亚苯基或亚萘基；Z^B为单键或(主链)-C(＝O)-O-；X^A和X^B各自独立地为酸不稳定基团；R^B为任选含有杂原子的C₁-C₂₀直链、支链或环状一价烃基；n为0-4的整数。

4.根据权利要求2所述的抗蚀剂组合物，其中所述聚合物还包含具有式(b1)或(b2)的重复单元：

其中R^A各自独立地为氢、氟、甲基或三氟甲基，Y^A为氢或含有至少一个选自以下结构的极性基团：羟基、氰基、羰基、羧基、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键、内酯环、磺内酯环和羧酸酐，m为1或2。