[发明专利]一种掩模版检测装置、光刻设备及掩模版检测方法

说明书

本发明公开一种掩模版检测装置、光刻设备及掩模版检测方法，装置包括：照明单元，用于对待检测掩模版提供暗场的偶极照明；成像单元，用于接收照明单元产生的光经待检测掩模版表面后形成的漫反射光；探测单元，用于采集待检测掩模版经成像单元所成的像；处理单元，与探测单元电连接，用于处理分析待检测掩模版所成像的图像数据；其中，偶极照明关于成像单元的主光轴对称，且照明单元和待检测掩模版可绕成像单元的主光轴相对旋转。本发明能够避免周期性的金属纹理的反射光发生相长干涉造成误检，以及避免相长干涉信号淹没缺陷信号造成漏检的现象，消除了金属纹理对掩模版检测结果的影响。

技术领域

本发明涉及掩模版检测技术领域，尤其涉及一种掩模版检测装置、光刻设备及掩模版检测方法。

背景技术

在半导体集成电路或平板显示的制备工艺中，为提高产品良率，污染控制是一个至关重要的环节。在进行曝光前，掩模版都需要进行异物(包括外来颗粒、指纹、划痕、针孔等)检测。

掩模版的掩模层通常由金属层图案化形成，在对金属层加工过程中，会在金属层的表面形成具有方向性的，且具有周期性的金属纹理(条纹)。在掩模版检测检测时，周期性的金属纹理的反射光容易被探测到从而造成误检，以及金属纹理形成的信号淹没缺陷信号，导致漏检。

发明内容

本发明实施例提供了一种掩模版检测装置、光刻设备及掩模版检测方法，能够避免周期性的金属纹理的反射光发生相长干涉造成误检，以及避免相长干涉信号淹没缺陷信号造成漏检的现象，消除了金属纹理对掩模版检测结果的影响。

第一方面，本发明提供了一种掩模版检测装置，包括：

照明单元，用于对待检测掩模版提供暗场的偶极照明；

成像单元，用于接收所述照明单元产生的光经所述待检测掩模版表面后形成的漫反射光；

探测单元，设置于所述成像单元的像面，用于采集所述待检测掩模版经所述成像单元所成的像；

处理单元，与所述探测单元电连接，用于处理分析所述待检测掩模版所成像的图像数据；

其中，所述偶极照明关于所述成像单元的主光轴对称，且所述照明单元和所述待检测掩模版可绕所述成像单元的主光轴相对旋转。

可选的，所述照明单元包括第一光源和第二光源，所述第一光源和所述第二光源关于所述成像单元的主光轴对称设置。

可选的，掩模版检测装置还包括第一旋转单元，与所述照明单元连接，用于驱动所述照明单元绕所述成像单元的主光轴旋转。

可选的，掩模版检测装置还包括第二旋转单元，用于驱动所述待检测掩模版绕所述成像单元的主光轴旋转。

可选的，掩模版检测装置还包括承载台，用于承载待检测掩模版，所述第二旋转单元用于驱动所述承载台旋转。

可选的，所述照明单元包括环形光源和位于所述环形光源内侧的遮光部，所述遮光部上设置有关于所述成像单元的主光轴对称的两个通孔，所述遮光部可绕所述成像单元的主光轴旋转。

可选的，所述照明单元产生的光在所述待检测掩模版上形成线性照明视场。

可选的，所述探测单元包括TDI线阵相机。

第二方面，本发明提供了一种光刻设备，包括如本发明第一方面所述的掩模版检测装置。

第三方面，本发明提供了一种掩模版检测方法，包括：

获取待检测掩模版的表面图像；

根据所述表面图像计算所述待检测掩模版表面的纹理方向；

调整对所述待检测掩模版提供的暗场的偶极照明的照明方向，以使所述偶极照明的光在平行于所述待检测掩模版表面上的分量的方向与所述纹理方向一致；