[发明专利]光学系统、取像装置及电子装置在审
| 申请号： | 201911066482.X | 申请日： | 2019-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN112764193A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 杨健;李明 | 申请（专利权）人： | 江西晶超光学有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/00 | 分类号： | G02B13/00;G02B13/18 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 宋永慧 |
| 地址： | 330096 江西省南昌市*** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学系统 装置 电子 | ||
1.一种光学系统，沿着光轴由物侧至像侧依序包括：第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜和第七透镜，其特征在于，
所述第一透镜具有正屈折力，且其物侧面于光轴处为凸面，其像侧面于光轴处为凹面；
所述第二透镜具有正屈折力，且其物侧面于光轴处为凸面；
所述第三透镜具有负屈折力，且其物侧面于光轴处为凸面，其像侧面于光轴处为凹面；
所述第五透镜具有正屈折力，且其像侧面于光轴处为凸面；
所述第七透镜具有负屈折力，且其像侧面于光轴处为凹面；
所述光学系统满足下列关系式：
TTL/ImgH＜1.3；
其中，TTL为所述第一透镜物侧面至所述光学系统的成像面在光轴上的距离，ImgH为所述光学系统的成像面上有效像素区域对角线长的一半。
2.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统满足下列关系式：
1.5＜f/R14＜2.6；
其中，f为所述光学系统的有效焦距，R14为所述第七透镜像侧面于光轴处的曲率半径。
3.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统满足下列关系式：
FNO＜1.9；
其中，FNO为所述光学系统的光圈数。
4.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统满足下列关系式：
1＜f2/f＜1.7；
其中，f2为所述第二透镜的有效焦距，f为所述光学系统的有效焦距。
5.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统满足下列关系式：
7＜TTL/T34＜12；
其中，TTL为所述第一透镜物侧面至所述光学系统的成像面在光轴上的距离，T34为所述第三透镜像侧面至所述第四透镜物侧面在光轴上的距离。
6.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统满足下列关系式：
1＜TTL/f＜1.3；
其中，TTL为所述第一透镜物侧面至所述光学系统的成像面在光轴上的距离，f为所述光学系统的有效焦距。
7.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统满足下列关系式：
-50＜(R11+R12)/(R11-R12)＜100；
其中，R11为所述第六透镜物侧面于光轴处的曲率半径，R12为所述第六透镜像侧面于光轴处的曲率半径。
8.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统满足下列关系式：
8＜TTL/CT7＜15；
其中，TTL为所述第一透镜物侧面至所述光学系统的成像面在光轴上的距离，CT7为所述第七透镜在光轴上的的距离。
9.一种取像装置，其特征在于，包括：
如权利要求1-8任一项所述的光学系统；以及，
感光元件，所述感光元件设于所述光学系统的像侧。
10.一种电子装置，其特征在于，包括：
壳体；以及，
如权利要求9所述的取像装置，所述取像装置安装在所述壳体上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西晶超光学有限公司，未经江西晶超光学有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911066482.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：打印模板管理的方法和装置
- 下一篇：目标对象的姿态确定方法、装置、介质及设备
