[发明专利]一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统

权利要求书

1.一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，其特征在于，所述方法包括：

获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；

判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；

当所述缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，获取缺陷散射光光强；

以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸。

2.根据权利要求1所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，其特征在于，所述以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸的步骤包括：

获取尺寸检测算法包括的尺寸计算公式和尺寸计算参数；其中，所述尺寸计算参数包括所述光学元件的折射率、与所述缺陷散射光光强对应的入射光强以及与所述入射光强对应的入射光波长；

将所述光学元件的折射率、所述入射光强、所述入射光波长和所述缺陷散射光光强代入所述尺寸计算公式进行计算，得到缺陷尺寸。

3.根据权利要求1所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，其特征在于，所述方法还包括：

当所述缺陷像元数大于所述分辨率像元数时，根据所述缺陷像元数进行计算，得到缺陷尺寸。

4.根据权利要求1所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，其特征在于，所述获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数的步骤包括：

获取所述光学元件的拍摄图像；

识别所述拍摄图像中包括的缺陷图像；

获取所述缺陷图像占用的缺陷像元数。

5.一种基于光学元件的缺陷尺寸检测系统，其特征在于，所述缺陷尺寸检测系统包括：

第一获取单元，用于获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；

判断单元，用于判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；

第二获取单元，用于在所述缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，获取缺陷散射光光强；

计算单元，用于以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸。

6.根据权利要求5所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测系统，其特征在于，所述计算单元包括：

提取子单元，用于获取尺寸检测算法包括的尺寸计算公式和尺寸计算参数；其中，所述尺寸计算参数包括所述光学元件的折射率、与所述缺陷散射光光强对应的入射光强以及与所述入射光强对应的入射光波长；

计算子单元，用于将所述光学元件的折射率、所述入射光强、所述入射光波长和所述缺陷散射光光强代入所述尺寸计算公式进行计算，得到缺陷尺寸。

7.根据权利要求5所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测系统，其特征在于，所述计算单元还用于在所述缺陷像元数大于所述分辨率像元数时，根据所述缺陷像元数进行计算，得到缺陷尺寸。

8.根据权利要求5所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测系统，其特征在于，所述第一获取单元包括：

获取子单元，用于获取所述光学元件的拍摄图像；

识别子单元，用于识别所述拍摄图像中包括的缺陷图像；

所述获取子单元，还用于获取所述缺陷图像占用的缺陷像元数。

9.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括存储器以及处理器，所述存储器用于存储计算机程序，所述处理器运行所述计算机程序以使所述电子设备执行根据权利要求1至4中任一项所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测方法。

10.一种可读存储介质，其特征在于，所述可读取存储介质中存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令被一处理器读取并运行时，执行权利要求1至4任一项所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测方法。