[发明专利]一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统

说明书

本申请实施例提供一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统，涉及光学测量技术领域，该方法包括：获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；当所述缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，获取缺陷散射光光强；以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸。可见，实施这种实施方式，能够测量出传统方法中无法检测到缺陷尺寸，提高缺陷检测效果。

技术领域

本申请涉及光学测量技术领域，具体而言，涉及一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统。

背景技术

随着科技的不断发展，光学系统及光学元件也在快速地更新换代。在光学元件不断更迭的过程中，光学元件始终会存在一定的缺陷，为了保证光学系统的正常运行，往往需要测量光学元件中的缺陷以及缺陷尺寸。然而，在实践中发现，对光学元件进行缺陷尺寸的测量通常是使用显微成像装置对缺陷进行检测，然后根据成像结果进行缺陷尺寸的计算。但是，上述的这种缺陷尺寸的检测方法会受到显微成像装置的检测分辨率约束，从而导致了传统方法无法测量出上述检测分辨率约束下的缺陷尺寸。

发明内容

本申请实施例的目的在于提供一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统，能够测量出传统方法中无法检测到缺陷尺寸。

本申请实施例第一方面提供了一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，包括：

获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；

判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；

当所述缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，获取缺陷散射光光强；

以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸。

在上述实现过程中，该方法可以优先获取光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数，从而确定现在能够获取到的缺陷图像的尺寸信息；在获取到上述的缺陷像元数之后，判断缺陷像元数是否小于预设的分辨率像元数，从而起到判断目前的缺陷尺寸是否小于可直接计算获取到的尺寸的效果；在缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，认定缺陷尺寸小于目前可以直接计算得到的尺寸，从而触发获取缺陷散射光光强的操作，其中缺陷散射光光强是探测光源照射到光学元件的缺陷位置处散射得到的；在获取到缺陷散射光光强之后，将缺陷散射光光强代入预设的尺寸检测算法，得到缺陷尺寸，从而实现更精细化的缺陷尺寸的获取。可见，实施这种实施方式，能够通过缺陷像元数的判断来确定传统方法是否能够直接计算，在不能够直接计算的情况下，通过尺寸检测算法和缺陷散射光光强来进行缺陷尺寸的计算，从而实现更细小的缺陷尺寸的检测，进而能够提高检测效果。

进一步地，所述以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸的步骤包括：

获取尺寸检测算法包括的尺寸计算公式和尺寸计算参数；其中，所述尺寸计算参数包括所述光学元件的折射率、与所述缺陷散射光光强对应的入射光强以及与所述入射光强对应的入射光波长；

将所述光学元件的折射率、所述入射光强、所述入射光波长和所述缺陷散射光光强代入所述尺寸计算公式进行计算，得到缺陷尺寸。

在上述实现过程中，该方法能够获取到尺寸检测算法包括的种种信息与参数，其中，尺寸检测算法所包括的尺寸计算公式和尺寸计算参数；其中，所述尺寸计算参数包括所述光学元件的折射率、与所述缺陷散射光光强对应的入射光强以及与所述入射光强对应的入射光波长皆可以为预设的参数，在上述尺寸计算公式和尺寸计算参数都确定的基础上，该方法可以自行对缺陷尺寸进行计算，从而到高精度的缺陷尺寸。可见，实施这种实施方式，能够进一步限定计算过程，从而使用一种计算的精度较高的方式代替其他的一些方式，从而提高上述缺陷尺寸的计算精度。

进一步地，所述方法还包括：