[发明专利]显示面板及显示面板的制备方法在审
申请号: | 201911157302.9 | 申请日: | 2019-11-22 |
公开(公告)号: | CN110943109A | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 巫君杰 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨艇要 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 制备 方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
阵列基板;
像素定义层,所述像素定义层设置在所述阵列基板上;以及
间隔柱,所述间隔柱设置在所述像素定义层上;
其中,所述间隔柱包括底面和顶面,所述顶面的截面积小于所述底面的截面积,且从所述顶面到所述底面,所述间隔柱的中心到所述间隔柱的侧面的水平距离逐渐增大。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述间隔柱的截面形状包括方形。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述间隔柱的截面形状包括圆形。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述间隔柱呈方形阵列设置在所述像素定义层上。
5.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S100:制备显示面板的衬底基板、阵列基板以及像素定义层;
S101:在所述像素定义层上制备间隔柱;
S102:通过精细金属掩膜板蒸镀技术在掩膜板对应的所述间隔柱位置处开孔;
S103:将所述掩膜板与所述间隔柱对位,并进行蒸镀。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述步骤S100中,还包括利用光刻工艺在所述像素定义层的像素有效区上开口。
7.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述间隔柱的截面形状包括圆形或方形,所述间隔柱的侧面具有坡度。
8.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述步骤S102中,所述掩膜板的所述开孔包括通孔或者盲孔。
9.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述步骤S102中,所述掩膜板与所述间隔柱对应的位置处,所述掩膜板的所述开孔包括通孔和盲孔,所述通孔处对应的所述间隔柱的高度大于所述盲孔处对应的所述间隔柱的高度。
10.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述步骤S103中,所述掩膜板与所述间隔柱对位完成后,使用所述掩膜板分别蒸镀红色像素、蓝色像素以及绿色像素。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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