[发明专利]一种显示面板、其制作方法及显示装置在审

专利信息
申请号: 201911319259.1 申请日: 2019-12-19
公开(公告)号: CN110943116A 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: 蔡敏;夏志强;陈英杰;马扬昭 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 杨晓萍
地址: 430205 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

衬底基板;

第一显示区,所述第一显示区包括发光区和透光区;

对于所述第一显示区,仅在所述透光区内设置透明隔断层;

对于所述第一显示区,仅在所述发光区内设置发光功能层、位于所述发光功能层上的阴极层以及位于所述阴极层上的封装层;

在平行于所述衬底基板所在平面的方向上,所述透明隔断层和所述封装层相互交叠。

2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光功能层的边缘具有沿靠近所述衬底基板方向下降的阶梯。

3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,在所述发光功能层和所述衬底基板之间设置有像素电路,所述像素电路和所述发光功能层之间设置有第一绝缘层,所述透明隔断层的厚度,大于所述发光功能层的厚度与所述第一绝缘层的厚度之和。

4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述透明隔断层的厚度小于所述封装层的厚度。

5.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述透明隔断层沿垂直所述衬底基板方向的厚度大于或者等于3微米。

6.如权利要求1-5任一项所述的显示面板,其特征在于,所述透明隔断层的材料包括氮化硅和氧化硅中的至少一种。

7.一种如权利要求1-6任一项所述的显示面板的制作方法,其特征在于,包括:

在所述透光区内形成所述透明隔断层的图案;

在所述透明隔断层上蒸镀所述发光功能层和所述阴极层;

在所述阴极层上形成封装层;

利用构图工艺,依次刻蚀掉位于所述透光区内的所述封装层、所述阴极层和所述发光功能层,分别形成所述封装层的图案、所述阴极层的图案和所述发光功能层的图案。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述在所述透光区内形成所述透明隔断层的图案,包括:

在所述衬底基板上形成所述透明隔断层;

在所述透明隔断层上涂布第一光刻胶,并对所述第一光刻胶进行图案化,形成图案化的第一光刻胶;

刻蚀掉所述发光区内的所述透明隔断层,并剥离所述第一光刻胶,在所述透光区内形成所述透明隔断层的图案。

9.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述利用构图工艺,依次刻蚀掉位于所述透光区内的所述封装层、所述阴极层和所述发光功能层,分别形成所述封装层的图案、所述阴极层的图案和所述发光功能层的图案,包括:

在所述封装层上涂布第二光刻胶,并对所述第二光刻胶进行图案化,形成图案化的第二光刻胶;

刻蚀掉所述透光区内的所述封装层,并剥离所述第二光刻胶,在所述发光区形成所述封装层的图案;

在所述封装层上涂布第三光刻胶,并对所述第三光刻胶进行图案化,形成图案化的第三光刻胶;

刻蚀掉所述透光区内的所述阴极层和所述发光功能层,并剥离所述第三光刻胶,在所述发光区内形成所述阴极层和所述发光功能层的图案。

10.如权利要求8所述的方法,其特征在于,在所述衬底基板上形成所述透明隔断层之前,所述方法还包括:

在所述发光区内形成像素电路;

在所述像素电路上形成第一绝缘层。

11.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-6任一项所述的显示面板。

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