[发明专利]一种磁控溅射工艺的咖啡色调色技术

权利要求书

1.一种磁控溅射工艺的咖啡色调色技术，其特征在于，在基片(1)上依次通过Ti打底层(2)，再通过真空磁控溅射的方法镀TiN过渡层(3)、TiCN功能层(4)，最后使用磁控溅射镀TiCN颜色层(5)，达到最终稳定的表面涂层颜色，其工艺步骤如下：

①将不锈钢基片(1)超声清洗后，进炉；

②在真空腔体中抽真空至8×10-4Pa，加热到150℃；

③对不锈钢基片(1)进行离子清洗20min，离子源电压1800V，工件偏压 600V，占空比50%，Ar：30mL/min，真空度0.3Pa；

④使用钛靶Ti进行磁控溅射沉积Ti打底层(2)；

⑤使用钛靶Ti和氮气N₂进行磁控溅射沉积TiN过渡层(3)；

⑥使用钛靶Ti、乙炔C₂H₂和氮气N₂进行磁控溅射沉积TiCN功能层(4)；

⑦使用钛靶Ti、氮气N₂、乙炔C₂H₂进行磁控溅射沉积TiCN颜色层(5)；

⑧镀膜工序结束后，首先关闭靶电源、偏压电源，然后关闭气源、停转架，工件在真空镀膜室内冷却至80-100℃时，向镀膜室内充大气，取出工件。

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射工艺的咖啡色调色技术，其特征在于，所述的步骤④中磁控溅射沉积Ti打底层(2)的技术参数为：溅射沉积时间15min，钛靶功率6KW，真空度0.35Pa，Ar：250mL/min，工件偏压：150V，占空比50%，沉积温度150℃。

3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射工艺的咖啡色调色技术，其特征在于，所述的步骤⑤中磁控溅射沉积TiN过渡层(3)的技术参数为：溅射沉积时间20min，钛靶功率6KW，Ar：180mL/min，氮气：20mL/min，真空度0.37Pa，工件偏压120V，占空比50%，沉积温度150℃。

4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射工艺的咖啡色调色技术，其特征在于，所述的步骤⑥中磁控溅射沉积TiCN功能层(4)的技术参数为：溅射沉积时间30min，钛靶功率6KW，真空度0.30-0.45Pa，Ar：180mL/min，氮气从20mL/min升到100mL/min，乙炔从0mL/min升到50mL/min，工件偏压120V，占空比50%，沉积温度150℃。

5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射工艺的咖啡色调色技术，其特征在于，所述的步骤⑦中磁控溅射沉积TiCN颜色层(5)的技术参数为：溅射沉积时间20min，钛靶功率6KWA，真空度0.40Pa，Ar：150ml/min，氮气流量：120mL/min，乙炔：60ml/min，工件偏压：120V，占空比30%，沉积温度150℃。