[实用新型]单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机

说明书

本实用新型提供一种单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，包括锅体和设置在锅体上方的锅盖，锅盖顶部连接横梁的一端，横梁的中部连接液压缸的驱动端，液压缸固定设置在立柱上，液压缸和液压站电连接，液压站具有液压系统；锅体底部设置出料阀和进料阀；锅盖上设置有搅拌机构，搅拌机构位于锅盖的中心位置，搅拌机构的左右两侧分别设置有分散机构；锅体底部中间位置设置有均质机构，均质机构包括第三电机，第三电机的驱动端和均质器传动连接，均质器设置在锅体内；锅盖上连接有抽真空系统，抽真空系统包括真空泵。本实用新型功能丰富，使得膏体的乳化反应更均匀，气泡少，颗粒更细腻，膏体更透明、更光滑。

技术领域

本发明涉及制膏设备技术领域，具体涉及一种单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机。

背景技术

在牙膏、膏状化妆品、药品乳膏等制作行业中，均需要用到制膏机，制膏机将液体和物料进行混合、溶解、均质、细化、研磨、剪切、乳化，从而得到最终的成品膏体。

现有的制膏机功能单一，不能适应各种碱性、酸性、各种密度的膏体生产需求；不能实现水相、油相、粉料的最佳发胶和最佳混合，乳化均质效果不透，膏体颗粒不够细腻、光滑，特别是先型透明膏体的气泡不够干净，对膏体的灌装有影响，容易引起膏体本身品种的不稳定。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种功能丰富的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，使得膏体的乳化反应更均匀，气泡少，颗粒更细腻，膏体更透明、更光滑。

为此，本发明提供的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，包括锅体和设置在所述锅体上方的锅盖，所述锅盖顶部连接横梁的一端，所述横梁的中部连接液压缸的驱动端，所述液压缸固定设置在立柱上，所述液压缸和液压站电连接，所述液压站具有液压系统；所述锅体底部设置出料阀和进料阀；所述锅盖上设置有搅拌机构，所述搅拌机构位于所述锅盖的中心位置，所述搅拌机构的左右两侧分别设置有分散机构；所述搅拌机构包括设置在所述横梁上的第一电机，所述第一电机的驱动端通过传动结构连接搅拌轴，所述搅拌轴穿过所述锅盖伸入所述锅体内，所述搅拌轴上设置有搅拌桨，所述搅拌桨上竖直延伸有搅拌叶片；所述搅拌轴的下端设置锚式刮板，所述锚式刮板内侧垂直延伸有多个刮片；所述分散机构包括设置在所述锅盖上的第二电机，所述第二电机的驱动端连接分散轴，所述分散轴上设置有分散盘；所述锅体底部中间位置设置有均质机构，所述均质机构包括第三电机，所述第三电机的驱动端和均质器传动连接，所述均质器设置在所述锅体内；所述锅盖上连接有抽真空系统，所述抽真空系统包括真空泵。

在本发明的一个可选实施例中，所述锅体外壁还设置有夹套，所述夹套的右下侧设置夹套冷却进水口，所述夹套的左上侧设置夹套冷却出水口，所述夹套的内腔内设置有螺旋导流板，所述螺旋导流板用于带动从所述夹套冷却进水口进入所述内腔的冷却液均匀流动，从所述夹套冷却出水口流出所述内腔；或者用于带动从所述夹套冷却出水口进入所述内腔的高温水蒸气均匀流动，从所述夹套冷却进水口流出所述内腔。

在本发明的一个可选实施例中，所述传动结构包括设置在所述第一电机驱动端的链轮和设置在所述搅拌轴上端的链轮，两个所述链轮之间连接有链条。

在本发明的一个可选实施例中，所述分散盘外周设置有若干分散叶片，所述分散叶片为向上向下交错设置，且呈轴向45°斜切设置。

在本发明的一个可选实施例中，所述分散轴上的轴承座上套设有分散冷却夹套，所述分散冷却夹套包括分散冷却夹套进水口和分散冷却夹套出水口，所述分散冷却夹套出水口高于所述分散冷却夹套进水口，所述分散冷却夹套的内腔设置螺旋导流板，所述螺旋导流板用于带动从所述分散冷却夹套进水口进入所述内腔的冷却液向上流动，从所述分散冷却夹套出水口流出所述内腔。