[实用新型]涂胶单元以及涂胶显影系统

权利要求书

1.一种涂胶单元，其特征在于，包括工艺箱体、用于承载基底的载片台、压力监测装置和通风系统，所述载片台设置于所述工艺箱体内，所述工艺箱体具有可供所述基底进出的开口，所述通风系统通过所述开口向所述工艺箱体内通风，所述压力监测装置设置于所述工艺箱体上并用于监测所述工艺箱体内的压力。

2.如权利要求1所述涂胶单元，其特征在于，所述压力监测装置设置在所述开口处的工艺箱体内壁上。

3.如权利要求1所述涂胶单元，其特征在于，所述压力监测装置的数量为至少两个，至少两个压力监测装置均匀分布在所述开口处的工艺箱体内壁上。

4.如权利要求2或3所述涂胶单元，其特征在于，所述开口处的工艺箱体内壁上设有凹槽，所述压力监测装置嵌设在所述凹槽内。

5.如权利要求1所述涂胶单元，其特征在于，所述载片台包括一真空吸盘，所述真空吸盘处于涂胶状态时其边缘与所述压力监测装置的垂直距离范围小于3cm。

6.如权利要求1所述涂胶单元，其特征在于，所述工艺箱体的底部具有排风口，所述通风系统包括供风系统和排风系统，所述供风系统通过所述开口向所述工艺箱体内供风，所述排风系统通过所述排风口排风。

7.如权利要求6所述涂胶单元，其特征在于，所述涂胶单元还包括控制模块，所述供风系统中设有调节阀，所述控制模块分别与所述调节阀和压力监测装置电连接，所述控制模块根据所述压力监测装置侦测到的压力值通过所述调节阀调节所述供风系统的供风量。

8.如权利要求6所述涂胶单元，其特征在于，所述涂胶单元还包括控制模块，所述排风系统中设有调节阀，所述控制模块分别与所述调节阀和压力监测装置电连接，所述控制模块根据所述压力监测装置侦测到的压力值通过所述调节阀调节所述排风系统的排风量。

9.如权利要求1所述涂胶单元，其特征在于，所述压力监测装置为压力传感器。

10.一种涂胶显影系统，其特征在于，包括如权利要求1至9中任一项所述的涂胶单元。