[实用新型]一种经纬仪底座

说明书

本申请提供一种经纬仪底座，属于经纬仪技术领域。包括底座主体、转动轴和双向限制轴承，双向限制轴承包括第一环体、第二环体、第三环体、滚动件和轴承架，第一环体、第二环体和第三环体同轴设置，第一环体与第二环体连接，第一环体的与第二环体连接的一侧的外径小于第一环体的远离第二环体的一侧的外径和第二环体的外径，以使第一环体与第二环体相对的表面、第二环体与第一环体相对的表面及第一环体的与第二环体连接的外表面形成容纳空间，滚动件和轴承架位于容纳空间内，滚动件与第一环体的与第二环体相对的表面、第二环体的与第一环体相对的表面和第三环体接触。该经纬仪底座采用更少的轴承对转动轴进行限制，结构更加精简。

技术领域

本实用新型涉及的是经纬仪技术领域，具体而言，涉及一种经纬仪底座。

背景技术

经纬仪底座用于固定经纬仪，并且经纬仪底座上还设置有转动轴，转动轴可以带动经纬仪沿转动轴的轴向进行转动，从而控制经纬仪的观测角度，对于目前的经纬仪底座，由于转动轴进行转动的时候会产生跳动，因此在经纬仪底座上需要对于转动轴的径向跳动和轴向跳动进行限制，加装多个轴承。例如，对于轴的径向跳动限制，需要加装径向轴承，对于轴的轴向跳动限制，需要加装轴向轴承，加装轴承数量多，并且限制效果不佳，导致经纬仪底座结构复杂，维修困难，成本高。

故需要一种结构更加精简的经纬仪底座。

实用新型内容

本实用新型的目的之一在于提供一种经纬仪底座，以便于在一定程度上解决现有技术中对于转动轴的径向跳动和轴向跳动的限制需要加装多个轴承，轴承数量多而效果不佳，最终导致经纬仪底座整体结构复杂的问题。本实用新型所提供的经纬仪底座，能够使用更少轴承的同时，对转动轴的径向跳动和轴向跳动进行限制，减少了需要加装的轴承数量，经纬仪底座整体结构简单，限制效果较好。

本实用新型的目的可以通过下列技术方案来实现：本实用新型提供了一种经纬仪底座，其特征在于，所述经纬仪底座包括：底座主体；转动轴，所述转动轴安装于所述底座主体，所述转动轴可以相对于所述底座主体转动并控制经纬仪沿轴向转动；以及双向限制轴承，所述双向限制轴承设置于所述底座主体，所述双向限制轴承与所述转动轴连接，所述双向限制轴承包括第一环体、第二环体、第三环体、滚动件和轴承架，所述第一环体、所述第二环体和所述第三环体同轴设置，所述第一环体与所述第二环体连接，所述第一环体的与所述第二环体连接的一侧的外径小于所述第一环体的远离所述第二环体的一侧的外径和所述第二环体的外径，以使所述第一环体与所述第二环体相对的表面、所述第二环体与所述第一环体相对的表面及所述第一环体的与所述第二环体连接的外表面形成容纳空间，所述滚动件和所述轴承架容纳于所述容纳空间内，所述滚动件与所述第一环体的与所述第二环体相对的表面接触，所述滚动件与所述第二环体的与所述第一环体相对的表面接触，所述滚动件与所述第三环体接触。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第一环体的外径与所述第二环体的外径相等。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第三环体的至少一部分位于所述第一环体与所述第二环体连接形成的所述容纳空间内，所述第三环体与所述容纳空间限定出U型槽，所述滚动件与所述轴承架容纳于所述U型槽内。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述轴承架包括第一轴承环、第二轴承环和第三轴承环，所述第一轴承环与所述第三轴承环沿着所述第二轴承环的轴向间隔设置，所述第二轴承环连接所述第一轴承环和所述第三轴承环，所述第一轴承环和所述第三轴承环的外径大于所述第二轴承环的外径，所述第一轴承环的第一侧与所述第一环体接触，所述第一轴承环的第二侧与所述第三环体接触，所述第三轴承环的第一侧与所述第二环体接触，所述第三轴承环的第二侧与所述第三环体接触，所述第二轴承环的第一侧与所述第一环体的与所述第二环体连接的部分的外表面接触，所述第二轴承环的第二侧与所述第三环体接触，所述滚动件分布于所述第一轴承环、所述第二轴承环和所述第三轴承环。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第一轴承环与所述第三轴承环的结构和尺寸相同。