[实用新型]一种镀膜均匀的真空镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201921579548.0 申请日: 2019-09-23
公开(公告)号: CN210420127U 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 童晓宏 申请(专利权)人: 兰溪市宏艺真空镀膜厂
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22;C23C14/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 321100 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀膜 均匀 真空镀膜 装置
【说明书】:

实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种镀膜均匀的真空镀膜装置,包括底座,所述底座的上端面安装固定有箱体,箱体上端面的中部安装固定有真空泵,真空泵的一端连通有抽气管并与箱体的内部连通,箱体一侧的上端安装固定有伺服电机,伺服电机的输出端通过联轴器安装有旋转轴并与箱体的内部连通,旋转轴上均匀焊接有支架和辊轴,箱体下部的内壁之间安装固定有扩散板,箱体底壁的中部安装固定有蒸发源,箱体一侧的底部连通有排气管,箱体另一侧的底部连通有进气管,且进气管的一端与鼓风机的输出端连通。本实用新型中,可以更加均匀进行镀膜作业,充气的过程中,滤网可以更好的拦截碎屑和漂浮物,从而降低了镀膜的不良率。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种镀膜均匀的真空镀膜装置。

背景技术

真空镀膜机工作时首先先抽真空,使真空室处于真空状态,膜料在加热到一定的温度后,膜料分子会产生挥发,挥发出的膜料分子沉积在真空室顶部的产品表面形成薄膜,但在充气的过程中,充气的气流激荡,造成镀膜机内的膜碎屑漂浮,进而被刚镀完膜的产品吸附,形成永久性的不良,从而影响了镀膜良率。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种镀膜均匀的真空镀膜装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种镀膜均匀的真空镀膜装置,包括底座,所述底座的上端面安装固定有箱体,箱体上端面的中部安装固定有真空泵,真空泵的一端连通有抽气管,且抽气管的一端与箱体的内部连通,箱体一侧的上端安装固定有伺服电机,伺服电机的输出端通过联轴器安装有旋转轴,且旋转轴与箱体的内部连通,旋转轴上均匀焊接有支架,且支架之间转动安装有辊轴,箱体下部的内壁之间安装固定有扩散板,箱体底壁的中部安装固定有蒸发源,箱体一侧的底部连通有排气管,箱体另一侧的底部连通有进气管,且进气管的一端与鼓风机的输出端连通。

优选的,所述箱体一侧内壁的上端安装固定有固定块,固定块的中部开设有凹槽,凹槽内安装有轴承,且轴承的中部插设固定有旋转轴的一端。

优选的,所述辊轴上均匀安装固定有挂钩,且每个挂钩的底部挂设有产品。

优选的,所述排气管的中部上设有单向阀。

优选的,所述进气管的内部安装固定有滤网。

本实用新型的有益效果是:本实用新型中,通过在此镀膜均匀的真空镀膜装置的内部转动安装带有支架和辊轴的旋转轴,旋转轴转动时带动通过挂钩挂设在辊轴上的镀膜产品匀速旋转,可以更加均匀进行镀膜作业,同时又在进气管内安装固定滤网,充气的过程中,滤网可以更好的拦截碎屑和漂浮物,从而降低了镀膜的不良率。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种镀膜均匀的真空镀膜装置的主视结构示意图;

图2为本实用新型提出的一种镀膜均匀的真空镀膜装置的图1中A的放大图;

图3为本实用新型提出的一种镀膜均匀的真空镀膜装置的旋转轴和支架的侧视结构示意图。

图中:1底座、2箱体、3真空泵、4抽气管、5伺服电机、6旋转轴、7固定块、8支架、9辊轴、10扩散板、11蒸发源、12排气管、13鼓风机、14进气管、15滤网。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

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