[实用新型]一种吸收芯成型装置高分子下料结构有效
| 申请号： | 201921695282.6 | 申请日： | 2019-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN211271675U | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | 张立 | 申请（专利权）人： | 泉州市泰迪新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | A61F13/15 | 分类号： | A61F13/15;A61F13/53 |
| 代理公司： | 泉州市诚得知识产权代理事务所(普通合伙) 35209 | 代理人： | 赖开慧 |
| 地址： | 362200 福建省泉州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 吸收 成型 装置 高分子 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种吸收芯成型装置高分子下料结构，包括机架及设于机架上的凹辊、凸辊、用于向凹辊内添加高分子的高分子下料装置，其特征在于：所述凹辊上设有复数个凹陷部，所述凸辊上设有复数个凸起部，各凸起部与各凹陷部通过啮合的方式分别咬合，所述机架上位于高分子下料装置与凹辊之间设有用于防止高分子散乱的铺料器，所述铺料器内设有连接高分子下料装置的下料口与凹辊的凹陷部之间的腔体，所述凹陷部沿轴向形成列状，且各列凹陷部绕轴心均匀分布，当凹辊转动时，所述腔体的最大覆盖范围为一列凹陷部。
2.根据权利要求1所述的一种吸收芯成型装置高分子下料结构，其特征在于：所述腔体内设有用于间隔的隔板，各隔板将腔体分隔成复数个下料通道。
3.根据权利要求1所述的一种吸收芯成型装置高分子下料结构，其特征在于：所述凹辊的轴向两侧上设有保护环，所述铺料器的下端抵靠在保护环上，保护环的凸起高度大于凹辊的辊面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泉州市泰迪新材料科技有限公司，未经泉州市泰迪新材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921695282.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种新型上颌窦提升术外侧开窗的钻头
- 下一篇：一种手机中框点胶检测机
