[实用新型]一种半导体清洗剂的生产装置

权利要求书

1.一种半导体清洗剂的生产装置，包括安装部和搅拌组件，其特征在于，还包括：

搅拌室，所述的搅拌室活动设置在所述的安装部上，所述的搅拌组件设置在所述的搅拌室内；

驱动机构，用于驱动所述的搅拌组件进行搅拌操作；所述的驱动机构与所述的搅拌组件相连；

往复机构，所述的往复机构与所述的驱动机构相连；当所述的驱动机构驱动所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的往复机构带动所述的搅拌室进行往复运动；

循环机构，用于将所述搅拌室内的物料循环输送至所述的搅拌室内；所述的循环机构与所述的搅拌室形成循环回路。

2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂的生产装置，其特征在于，所述的搅拌组件包括：

转动设置在所述搅拌室内的搅拌轴，所述的搅拌轴上设有搅拌叶，所述的搅拌轴与所述的驱动机构相连，所述的驱动机构用于驱动所述的搅拌轴进行转动。

3.根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂的生产装置，其特征在于，所述的往复机构包括：

导向组件，用于使所述的搅拌室沿着所述的导向组件进行直线运动；所述的导向组件设置在所述的安装部上；

弹性伸缩组件，所述的弹性伸缩组件分别与所述的搅拌室和所述的导向组件相连；

间歇组件，所述的间歇组件与所述的驱动机构相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的间歇组件间歇性带动所述的搅拌室沿着所述的导向组件进行直线运动。

4.根据权利要求3所述的一种半导体清洗剂的生产装置，其特征在于，所述的间歇组件包括：

转动设置在所述搅拌室上的凸轮，所述的凸轮通过传动组件与所述的驱动机构相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的传动组件带动所述的凸轮进行转动；

固定部，所述的固定部固定设置在所述凸轮的一侧；当所述的凸轮进行转动时，所述的凸轮间歇地与所述的固定部相接触。

5.根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂的生产装置，其特征在于，所述的循环机构包括：

循环室，所述的循环室与所述的搅拌室形成循环回路；

限流组件，用于限制所述循环室与所述搅拌室之间的物料流动方向；

密封件，所述的密封件滑动设置在所述的循环室内；

滑动组件，所述的滑动组件与所述的搅拌组件相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的滑动组件带动所述的密封件在所述的循环室内进行往复滑动。