[实用新型]一种半导体清洗剂的生产装置

说明书

本实用新型公开了一种半导体清洗剂的生产装置，属于半导体加工领域。该生产装置包括:安装部；搅拌组件；搅拌室，所述的搅拌室活动设置在所述的安装部上，所述的搅拌组件设置在所述的搅拌室内；驱动机构，所述的驱动机构与所述的搅拌组件相连；往复机构，所述的往复机构与所述的驱动机构相连；循环机构，用于将所述搅拌室内的物料循环输送至所述的搅拌室内。本实用新型可以在搅拌组件进行搅拌操作的同时，通过往复机构带动搅拌室进行运动，从而可以大大提高对半导体清洗剂原料的搅拌效果。另外，本实用新型还通过设置循环机构，可以使搅拌室内的半导体清洗剂原料进行循环流动，从而可以进一步提高对原料的搅拌效果。

技术领域

本实用新型涉及半导体加工领域，具体是一种半导体清洗剂的生产装置。

背景技术

半导体清洗剂，是一种用于清洁半导体表面污物的试剂，其一般是由多种有机溶剂混合在一起，因此，半导体清洗剂在生产时，需要将各个原料混合在一起，并进行搅拌混合处理。

然而，传统大多数半导体清洗剂的生产装置只是通过搅拌叶的转动来实现对清洗剂原料的搅拌混合处理，该类型的生产装置存在搅拌效果较差的问题，因此，还需要对其进行改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种半导体清洗剂的生产装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型实施例提供如下技术方案：

一种半导体清洗剂的生产装置，包括安装部和搅拌组件，以及还包括：

搅拌室，所述的搅拌室活动设置在所述的安装部上，所述的搅拌组件设置在所述的搅拌室内；

驱动机构，用于驱动所述的搅拌组件进行搅拌操作；所述的驱动机构与所述的搅拌组件相连；

往复机构，所述的往复机构与所述的驱动机构相连；当所述的驱动机构驱动所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的往复机构带动所述的搅拌室进行往复运动；

循环机构，用于将所述搅拌室内的物料循环输送至所述的搅拌室内；所述的循环机构与所述的搅拌室形成循环回路。

本实用新型实施例采用的一种优选方案，所述的搅拌组件包括：

转动设置在所述搅拌室内的搅拌轴，所述的搅拌轴上设有搅拌叶，所述的搅拌轴与所述的驱动机构相连，所述的驱动机构用于驱动所述的搅拌轴进行转动。

本实用新型实施例采用的另一种优选方案，所述的往复机构包括：

导向组件，用于使所述的搅拌室沿着所述的导向组件进行直线运动；所述的导向组件设置在所述的安装部上；

弹性伸缩组件，所述的弹性伸缩组件分别与所述的搅拌室和所述的导向组件相连；

间歇组件，所述的间歇组件与所述的驱动机构相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的间歇组件间歇性带动所述的搅拌室沿着所述的导向组件进行直线运动。

本实用新型实施例采用的另一种优选方案，所述的间歇组件包括：

转动设置在所述搅拌室上的凸轮，所述的凸轮通过传动组件与所述的驱动机构相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的传动组件带动所述的凸轮进行转动；

固定部，所述的固定部固定设置在所述凸轮的一侧；当所述的凸轮进行转动时，所述的凸轮间歇地与所述的固定部相接触。

本实用新型实施例采用的另一种优选方案，所述的循环机构包括：

循环室，所述的循环室与所述的搅拌室形成循环回路；

限流组件，用于限制所述循环室与所述搅拌室之间的物料流动方向；

密封件，所述的密封件滑动设置在所述的循环室内；