[实用新型]一种用于靶材喷砂的支撑装置

说明书

本实用新型公开了靶材制造技术领域的一种用于靶材喷砂的支撑装置，旨在解决现有技术中基板固定、操作人员移动喷砂的操作方式消耗体力大、喷砂不均匀的技术问题。所述装置包括水平放置的支撑台，所述支撑台底面设有滚轮，支撑台顶面设有横截面为三角形的支撑架，所述支撑架横向布设于支撑台顶面，支撑架一个或两个斜侧面作为基板支撑区，与所述基板支撑区正向连接的支撑台顶面构成基板放置区。

技术领域

本实用新型涉及一种用于靶材喷砂的支撑装置，属于靶材制造技术领域。

背景技术

溅射靶材通常应用于集成电路、液晶显示屏、激光存储器等电子及信心产业，通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统将对应粉末经高温熔化后喷涂并附着于基板上，形成各种功能薄膜。目前，通常是将基板固定在喷砂箱内的工作台面上，操作人员举着喷枪朝向基板进行喷砂操作。同时，为确保喷砂均匀，操作人员需要手持喷枪来回移动，该喷砂方式不仅增加了操作人员的体力消耗，而且由于喷枪移动不匀速导致喷砂不均匀，影响了产品质量。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种用于靶材喷砂的支撑装置，以解决现有技术中基板固定、操作人员移动喷砂的操作方式消耗体力大、喷砂不均匀的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：

一种用于靶材喷砂的支撑装置，包括水平放置的支撑台，所述支撑台底面设有滚轮，支撑台顶面设有横截面为三角形的支撑架，所述支撑架横向布设于支撑台顶面，支撑架一个或两个斜侧面作为基板支撑区，与所述基板支撑区正向连接的支撑台顶面构成基板放置区。

优选地，基板放置区或／和基板支撑区上设有防滑垫。

优选地，所述基板放置区上的防滑垫表面设有不少于一个与所述装置轴向平行的防滑凹槽。

优选地，所述基板支撑区上的防滑垫表面设有不少于一个与所述装置轴向垂直的防滑凹槽。

优选地，所述防滑垫包括橡胶垫。

优选地，还包括设于工作台顶面的导轨，所述导轨顶面设有凸台或凹槽，所述滚轮的轮周面设有与导轨顶面形状相吻合的凹槽或凸台。

优选地，所述凹槽为横截面为三角形的斜凹槽，所述凸台为横截面为三角形的斜凸台。

优选地，还包括动力输出端与所述滚轮传动连接的驱动单元，所述驱动单元驱动滚轮沿所述导轨滚动。

优选地，所述驱动单元包括步进电机。

与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果：利用设于支撑台顶面的横向放置的横截面为三角形的支撑架为放置于支撑台顶面的基板提供支撑，使放置于支撑台顶面的基板倾斜适当角度，以利于进行喷砂作业；利用设于支撑台底面的滚轮沿导轨滚动，前述滚轮由步进电机驱动匀速移动，从而确保了基板沿预设方向匀速平移；并在基板放置区和基板支撑区布设有防滑垫，起到了防止基板滑动和调整基板倾斜角度的作用。本实用新型装置有利于操作人员把主要精力放在喷砂操作，无需操作人员移动位置，有利于节省体力和提高喷砂均匀度，进而提高产品质量。

附图说明

图1是本实用新型整体结构侧视图；

图2是本实用新型整体结构正视图；

图3是本实用新型所述导轨结构示意图；

图4是本实用新型所述防滑垫的局部放大示意图。

图中：1、支撑台；2、支撑架；3、防滑垫；31、防滑凹槽；4、滚轮；5、导轨；6、工作台；7、基板。

具体实施方式