[发明专利]光掩膜固持系统

说明书

一种光掩膜固持系统，包括内盒及外盒。所述内盒配置来接收具有第一识别特征及在所述第一识别特征附近的护膜(pellicle)的光掩膜，所述内盒包括：内基座，具有外围区域围绕的光掩膜容置区，其限定一相应地允许观察所述第一识别特征和所述护膜的一部分的第一观察区；及内盖，配置来与外围区域接合，从而限定容置所述光掩膜的内部。所述外盒配置来接收内基座，并包括：外基座，其上限定第二观察区域，其中，当所述外基座接收所述内盒时，第二观察区域可观察地与第一观察区域对准；所述外基座包括嵌入在所述第二观察区中并与所述第一观察区可观察地对准的外部光学组件，其配置来允许观察内基座的第三识别特征；及外盖，配置来与所述外基座接合并覆盖所述内盒。

技术领域

本申请要求于2018年10月29日提交的美国临时专利申请号62/751736的优先权，其通过引用并入本文，并且成为说明书的一部分。

本公开涉及用于存储，输送，运输和处理诸如光掩膜和晶片的易碎物体的容器，尤其涉及用于存储，输送，运输和光掩膜的固持系统。

背景技术

半导体工业中，基于光掩膜固持器的载荷精确度的要求的提高，光掩膜固持器也随着发展以强化对潜在的环境危害的保护。

例如，新一代的光掩膜固持器有时具有双盒结构，其包括用于容纳光掩膜的内盒，和用于容纳内盒的外盒。在输送过程中，光掩膜可能会收容在内盒中。为了执行光刻工艺，可以打开外盒以允许从中取出内盒。然后，在抵达曝光设备内部的指定位置时，可以打开内盒以使用光掩膜来进行后续曝光过程。

发明内容

根据一实施例，本公开的一个方面提供了一种光掩膜固持系统，包括内盒及外盒。所述内盒配置来接收具有第一识别特征的光掩膜，所述内盒包括：内基座，具有光掩膜容置区，所述光掩膜容置区大致位于几何中心且被外围区域围绕，其中，所述内基座具有限定在所述光掩膜容置区中的第一观察区，所述第一观察区相应地布置成允许观察所述第一识别特征；及

内盖，配置来与所述内基座的外围区域接合，从而限定用于容置所述光掩膜的内部，其中，所述内盒还被配置来接收具有护膜(pellicle)的光掩膜，所述护膜布置在所述第一识别特征附近；所述内基座包括第三识别特征；和所述内基座的所述第一观察区域被相应地布置以允许观察所述第一识别特征和所述护膜的一部分。所述外盒配置来接收所述内基座，所述外盒包括：外基座，其上限定第二观察区域，其中，当所述外盒接收所述内盒时，所述第二观察区域可观察地与所述内盒的所述第一观察区域对准；和所述外基座包括外部光学组件，所述外部光学组件嵌入在所述第二观察区中并与所述第一观察区可观察地对准；和所述外部光学组件配置来允许观察所述第三识别特征；及外盖，配置来与所述外基座接合并覆盖所述内盒。

根据一实施例，本公开的一个方面提供了一种光掩膜固持系统，包括内盒及外盒。所述内盒配置来接收邻近于一护膜(pellicle)并且具有第一识别特征的光掩膜。所述内盒包括：内基座，具有光掩膜容置区，所述光掩膜容置区大致位于几何中心且被外围区域围绕；及内盖，配置来与所述内基座的外围区域密封地接合，从而限定用于容置所述光掩膜的内部。所述内基座包括内部光学组件，所述内部光学组件密封地嵌入在所述光掩膜容置区，以允许观察所述第一识别特征和所述护膜的一部分。所述外盒配置来接收所述内基座，所述外盒包括：外基座，包括外部光学组件，当所述外基座接收所述内盒时，所述外部光学组件与所述内部光学组件可观察地对准，所述第二观察区域可观察地与所述内盒的所述第一观察区域对准；及

外盖，配置来与所述外基座接合并覆盖所述内盒。

附图说明

为可仔细理解本案以上记载之特征，参照实施态样可提供简述如上之本案的更特定描述，一些实施态样系说明于随附图式中。然而，要注意的是，随附图式仅说明本案的典型实施态样并且因此不被视为限制本案的范围，因为本案可承认其他等效实施态样。

图1示出了根据本公开的一些实施例的光掩膜固持系统的示意性剖视图；