[发明专利]由数字印刷工艺构造的抗磨膜

权利要求书

1.一种用于制造结构化耐磨膜的方法，包括以下步骤：

a.提供耐磨基底膜；

b.将可塑含涂料覆盖层施加于所述耐磨基底膜的至少一部分区域；

c.使用数字印刷工艺至少部分地构造所述含涂料覆盖层，以产生所述含涂料覆盖层的结构；以及

d.至少部分地固化所述含涂料覆盖层；

其特征在于，使用数字印刷工艺部分地构造所述含涂料覆盖层是通过利用喷墨方法喷涂置换油墨来进行的。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述耐磨基底膜和/或可塑含涂料覆盖层包括丙烯酸酯类塑料组合物。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述耐磨基底膜和/或可塑含涂料覆盖层包括硬质材料，所述硬质材料的量在5wt.-％至40wt.-％之间，其中，所述硬质材料的平均晶粒直径在10μm至250μm之间。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述可塑含涂料覆盖层的厚度为≥1μm至≤5mm。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述可塑含涂料覆盖层包括通过电磁辐射固化的材料。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述置换油墨主要由选自由丙烯酸酯类塑料、聚氨酯改性丙烯酸酯塑料、水、有机溶剂或其混合物所组成的组的油墨组合物组成。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所喷射的置换油墨的液滴速度、液滴体积和位置根据三维数字样板而变化。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述数字样板基于装饰产生，其中数字样板提供与装饰的触觉相对应的互补的凹部和凸起。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中固化是通过使用波长为≥10nm至≤450nm的UV辐射来进行。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在第一固化步骤中，固化使用波长为≥315nm至≤450nm的UV辐射，并且在第二固化步骤中，固化使用波长为≥10nm至≤250nm的UV辐射。

11.根据权利要求1或2所述的方法，进一步包括以下步骤：

g.提供载体，所述载体的至少一部分区域上具有装饰；以及

h.将所述耐磨基底膜施加在所述装饰上；

其中，在施加、结构化和至少部分固化所述含涂料覆盖层之前，将所述耐磨基底膜施加在所述装饰上，其中所述含涂料覆盖层的结构至少部分与所述装饰同步产生。

12.一种结构化耐磨膜，根据前述权利要求中任一项所述的方法而生产，包括耐磨基底膜，所述耐磨基底膜包括至少施加并固定至所述耐磨基底膜的部分区域上的含涂料覆盖层，其中所述含涂料覆盖层包括通过所述数字印刷工艺产生的结构，其特征在于，使用数字印刷工艺部分地构造所述含涂料覆盖层是通过利用喷墨方法喷涂置换油墨来进行的。

13.根据权利要求12所述的结构化耐磨膜在装饰面板的保护中的用途，其特征在于，所述装饰面板包括载体，在所述载体的至少一部分区域上的装饰，以及施加到所述装饰上的结构化耐磨膜；并且其中在施加所述结构化耐磨膜期间，所述含涂料覆盖层的结构至少部分地与装饰同步对准。

14.包括结构化耐磨膜的装饰面板，包括载体，所述载体具有施加到至少一个局部区域的装饰，以及根据权利要求12所述的结构化耐磨膜，其中所述结构化耐磨膜的结构至少在一些区域与所述装饰同步。