[发明专利]检查装置在审

专利信息
申请号: 201980029439.8 申请日: 2019-04-23
公开(公告)号: CN112272766A 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 菅田贵志;儿玉亮二 申请(专利权)人: 纳米系统解决方案株式会社
主分类号: G01N21/956 分类号: G01N21/956;H01L21/66
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李婷;王玮
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 检查 装置
【说明书】:

提供一种检查装置,能够以节省空间的方式可靠地测量晶片的斜面等的异形部分。检查装置(100)具备:对作为对象的晶片(WA)的外周区域(AP)进行照明的外周照明部(11、111)、对晶片(WA)的外周区域(AP)进行拍摄的外周拍摄部,外周照明部(11、111)具有圆弧照明部(11a、111a),所述圆弧照明部沿着圆周(CI)的部分区域配置而对基准轴(SA)上的既定区域(A1)进行照明,所述圆周(CI)以基准轴(SA)为中心,圆弧照明部(11a、111a)的基准轴(SA)沿与晶片(WA)的外周部(UA)延伸的切线方向相交的方向延伸。

技术领域

本发明涉及一种测量对象的外周的状态的检查装置,特别地涉及一种测量在外周具有倾斜部、凹陷的对象的检查装置。

背景技术

作为检查装置,存在晶片边缘检查装置,检测产生于形成在晶片的边缘的斜面上的缺痕。作为该晶片边缘检查装置,公知有具备圆顶型的照明机构和拍摄机构的装置,所述照明机构由内侧表面具有反射面的半球面体形成,被配设为该半球面的中心轴位于载置机构上的晶片的中心面上,对拍摄区域中的包含该晶片的斜面的区域照射光;所述拍摄机构被配设在光轴相对于晶片的中心面大致垂直并且与由照明机构照射光的晶片的斜面附近相交的位置,对拍摄区域中包含晶片的斜面的区域进行拍摄(例如,参照专利文献1)。

但是,在专利文献1中,圆顶型的照明大型且不容易节省空间化,使检查装置大型化。另外,在晶片边缘检查装置的情况下,组装入单一的检查部的情况较少,大多情况是在受限的空间内安装功能或机构不同的多个检查部,关于各检查部,节省空间化的需求较高。

专利文献1: 日本特开2016-178298号公报。

发明内容

本发明是鉴于上述的背景技术的问题点而提出的,其目的在于提供一种检查装置,能够以节省空间的方式可靠地测量晶片的斜面等的异形部分。

为了达成上述目的,本发明的检查装置具备:对对象的外周区域进行照明的外周照明部、对对象的外周区域进行拍摄的外周拍摄部,外周照明部具有圆弧照明部,所述圆弧照明部沿以基准轴为中心的圆周的部分区域配置而对基准轴上的既定区域进行照明,圆弧照明部的基准轴沿与对象的外周部所延伸的切线方向相交的方向延伸。

在上述检查装置中,考虑在与对象的外周部所延伸的切线方向相交的方向上延伸的基准轴,外周照明部具有对基准轴上的既定区域进行照明的圆弧照明部,因此能够效率良好地对外周拍摄部中朝向外缘而倾斜的部分、从外缘后退的凹陷部分这样的异形部分进行照明,能够使外周照明部节省空间。

根据本发明的具体的一技术方案,在上述检查装置中,圆弧照明部的基准轴在与切线方向正交的方向上延伸,基准轴上的既定区域与对象的外周区域中平坦部与该平坦部的外侧的倾斜部的边界位置或者附近所通过的部位对应。在该情况下,平坦部的外缘、凹陷部分的照明变得均匀,能够精密地测量缺痕或其他的缺陷。

根据本发明其他技术方案,圆弧照明部的基准轴相对于平坦部平行地延伸。

根据本发明的进一步的其他技术方案,圆弧照明部被配置在绕基准轴的180°以下的角度范围。

根据本发明的进一步的其他技术方案,外周照明部具有从倾斜方向对对象的外周区域中最外侧的倾斜部所通过的部位进行照明的倾斜照明部。在该情况下,倾斜部的照明变得更为可靠。

根据本发明的进一步的其他技术方案,倾斜照明部具有:反射部,其与对象的外周区域的倾斜部所通过的部位对置地配置;光供给部,其向该反射部供给照明光。在该情况下,能够借助反射部的角度调整而适当地对倾斜部进行照明。

根据本发明的进一步的其他技术方案,反射部具有光扩散性。在该情况下,能够提高相对于倾斜部的照明的均匀性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳米系统解决方案株式会社,未经纳米系统解决方案株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980029439.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top