[发明专利]基于多个散射信号的嵌入式粒子深度分级

权利要求书

1.一种检验系统，其包括：

照明源，其经配置以产生照明束；

一或多个照明光学器件，其用于导引所述照明束到样本；

第一收集通道，其包含用于响应于所述照明束而从所述样本收集第一立体角范围内的光的至少第一检测器，所述第一收集通道进一步包含用于控制从所述样本入射于所述第一检测器上的所述光的偏振的第一偏振器；

第二收集通道，其包含用于响应于来自所述照明源的所述照明束而从所述样本收集不同于所述第一立体角范围的第二立体角范围内的光的至少第二检测器，所述第二收集通道进一步包含用于控制从所述样本入射于所述第二检测器上的所述光的偏振的第二偏振器；及

控制器，其包含一或多个处理器，所述一或多个处理器经配置以执行程序指令而引起所述一或多个处理器：

接收两个或更多个散射信号，所述两个或更多个散射信号包含基于所述第一偏振器的一或多个定向的来自所述第一收集通道的一或多个散射信号，所述两个或更多个散射信号进一步包含基于所述第二偏振器的一或多个定向的来自所述第二收集通道的一或多个散射信号；及

基于比较所述两个或更多个散射信号与训练数据来确定所述样本中一或多个缺陷的深度，所述训练数据包含来自具有已知深度处的已知缺陷的训练样本的散射信号。

2.根据权利要求1所述的检验系统，其中基于比较所述两个或更多个散射信号与所述训练数据来确定所述样本中一或多个缺陷的深度包括：

基于比较所述两个或更多个散射信号与所述训练数据来按深度分级分选所述样本中的所述一或多个缺陷。

3.根据权利要求2所述的检验系统，其中所述深度分级包括：

两个或更多个深度分级。

4.根据权利要求2所述的检验系统，其中所述深度分级包括：

表面深度分级及两个或更多个表面下深度分级。

5.根据权利要求2所述的检验系统，其中所述深度分级包括：

表面深度分级及四个或更多个表面下深度分级。

6.根据权利要求1所述的检验系统，其中基于比较所述两个或更多个散射信号与训练数据来确定所述样本中一或多个缺陷的深度包括：

基于所述训练数据来产生用于确定缺陷深度的一或多个规则；及

将所述一或多个规则应用于所述两个或更多个散射信号以确定所述样本中所述一或多个缺陷的所述深度。

7.根据权利要求1所述的检验系统，其中基于比较所述两个或更多个散射信号与训练数据来确定所述样本中一或多个缺陷的深度包括：

使用所述训练数据来训练机器学习算法，其中所述机器学习算法包含监督式学习、半监督式学习、或深度学习技术中的至少一者；

将所述两个或更多个散射信号作为输入提供到所述机器学习算法；及

基于所述机器学习算法的输出来确定所述样本中一或多个缺陷的所述深度。

8.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述一或多个缺陷包括：

一或多个粒子，其嵌入所述样本中。

9.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述样本包括：

半导体晶片。

10.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述样本包括：

膜，其沉积于衬底上。

11.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述样本包括：

多层膜堆叠，其沉积于衬底上。

12.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述一或多个照明光学器件包含物镜，其中所述第一立体角范围包含所述物镜的数值孔径内的第一立体角子集，其中所述至少第二组收集角包含所述物镜的所述数值孔径内的第二立体角子集。

13.根据权利要求12所述的检验系统，其中所述第一收集通道及所述第二收集通道是方位对称的。