[发明专利]彩膜结构、显示面板及其制备方法和显示装置

权利要求书

1.一种彩膜结构，其特征在于，包括黑矩阵以及布置在所述黑矩阵开口区域内的彩膜层，所述彩膜结构还包括：反射层；

所述反射层与所述黑矩阵至少部分重叠，所述反射层被配置为位于所述黑矩阵用于朝向发光源的一侧，使得所述发光源射向所述黑矩阵的光线至少部分地被反射至所述发光源，并经所述彩膜层射出。

2.根据权利要求1所述的彩膜结构，其特征在于，所述反射层与所述黑矩阵完全重合。

3.根据权利要求1或2所述的彩膜结构，其特征在于，所述反射层为单层膜结构，所述单层膜结构中用于朝向所述发光源的一侧的表面结构为平面结构。

4.根据权利要求1或2所述的彩膜结构，其特征在于，所述反射层为单层膜结构，所述单层膜结构中用于朝向所述发光源的一侧的表面结构为周期性规则结构或者非规则结构；

所述周期性规则结构包括：呈周期变化的锯齿形结构或波浪形结构；或者，呈阵列排布的柱状结构、锥状结构或球状结构；

所述非规则结构包括：至少一个向所述黑矩阵一侧凹陷的曲面结构。

5.根据权利要求4所述的彩膜结构，其特征在于，所述单层膜结构由达到或超过预设反射率的金属材料制备，所述金属材料至少包括：银、镁、铜或铝。

6.根据权利要求1或2所述的彩膜结构，其特征在于，所述反射层为多层膜结构，所述多层膜结构包括多个沿厚度方向依次叠加的膜层，且任意相邻的两个所述膜层之间的折射率差值大于0.3。

7.根据权利要求6所述的彩膜结构，其特征在于，各所述膜层的厚度为目标波长的1/4整数倍；

所述目标波长为包含所述彩膜结构的显示面板的期望出光波长。

8.根据权利要求7所述的彩膜结构，其特征在于，所述多层膜结构包括依次交替的第一膜层和第二膜层，距离所述黑矩阵最近的所述第一膜层与所述黑矩阵贴合；所述第一膜层由氧化硅或者聚酰亚胺制备，所述第二膜层由氮化硅制备。

9.一种显示面板，其特征在于，包括：发光源以及如权利要求1至8中任一项所述的彩膜结构，所述彩膜结构中的黑矩阵和反射层均对应于所述发光源的非发光区域，所述彩膜结构中的彩膜层对应于所述发光源的发光区域；

所述发光源包括有机电致发光层；或者，所述发光源包括背光模组和液晶盒层的组合。

10.一种如权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

在玻璃基板中对应于发光源的非发光区域处制作黑矩阵；在所述黑矩阵远离所述玻璃基板一侧的表面制作反射层；在所述黑矩阵的开口区域内制作彩膜层；

或者，在有机电致发光层的非发光区域制作反射层；在所述反射层远离所述有机电致发光层一侧的表面制作黑矩阵；在所述有机电致发光层的发光区域制作所述彩膜层。

11.根据权利要求10所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述黑矩阵远离所述基板一侧的表面制作形成所述反射层包括：

在所述黑矩阵远离所述基板一侧的表面制作单层膜结构；在所述单层膜结构靠近所述发光源一侧的表面制作出具有周期性规则结构或者非规则结构的表面结构；

或者，在所述黑矩阵的表面依次制作沿厚度方向叠加的多个膜层；任意相邻的两个所述膜层之间的折射率差值大于0.3。

12.根据权利要求10所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述有机电致发光层的非发光区域制作反射层包括：

在所述有机电致发光层的非发光区域制作与所述周期性规则结构或者非规则结构的所述表面结构相适应的反射层基底结构；在所述反射层基底结构上制作所述单层膜结构；

或者，在所述有机电致发光层的非发光区域依次制作沿厚度方向叠加的多个膜层；任意相邻的两个所述膜层之间的折射率差值大于0.3。

13.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的显示面板。