[发明专利]打印喷头的清洁装置及其控制方法有效

专利信息
申请号: 202010102450.7 申请日: 2020-02-19
公开(公告)号: CN111300990B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 孙少东;王宏;闫俊伟;高浩然;李丽 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: B41J2/165 分类号: B41J2/165
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;宋海斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 打印 喷头 清洁 装置 及其 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种打印喷头的清洁装置,其特征在于,包括:供液装置、供液通路、回液通路、过滤装置和控制阀;

所述供液通路的一端与所述供液装置连接,所述供液通路的另一端与所述喷头的一端连接,所述回液通路的一端设置有用于收集从所述喷头喷出的流体的集液装置,所述回液通路的另一端与所述供液装置连接;

所述供液通路和所述回液通路中均设置有所述过滤装置和所述控制阀;

所述供液装置包括控制装置、储液装置和压力调节装置,所述压力调节装置用于调整所述储液装置中的压力,所述控制装置包括减压阀,所述减压阀设置于所述储液装置和所述压力调节装置之间,所述减压阀用于控制所述供液装置输入至所述供液通路中的流体达到预设输出压力;

所述回液通路中还设置有废液收集装置,所述废液收集装置用于存储所述集液装置中的流体。

2.根据权利要求1所述打印喷头的清洁装置,其特征在于,所述回液通路中还设置有真空度调节装置;

所述真空度调节装置与所述废液收集装置连接,用于调整所述废液收集装置中的真空度;

所述真空度调节装置还与所述储液装置连接,用于调整所述储液装置中的真空度。

3.根据权利要求1所述打印喷头的清洁装置,其特征在于,所述供液通路中还设置有缓冲装置;

所述缓冲装置设置于所述供液装置与所述喷头之间,用于存储从所述供液装置输出的流体,并将所述流体输送至所述喷头;

所述过滤装置设置于所述供液装置与所述缓冲装置之间。

4.根据权利要求3所述打印喷头的清洁装置,其特征在于,所述压力调节装置与所述缓冲装置连接,用于调整所述缓冲装置中的压力;

所述控制装置包括电气比例阀,所述电气比例阀设置于所述压力调节装置与所述缓冲装置之间。

5.根据权利要求3所述打印喷头的清洁装置,其特征在于,所述缓冲装置包括透明材料制成的壳体;

所述壳体上设置有至少一个液位检测装置,所述液位检测装置用于监测所述缓冲装置内的液位高度。

6.一种如权利要求1-5任一项所述打印喷头的清洁装置的控制方法,其特征在于,包括:

打开供液通路中的控制阀,开启供液装置,通过压力调节装置以及所述控制装置的减压阀,调整所述供液装置的储液装置中的压力,使得从所述储液装置内输出流体以预设的输出压力输送至供液通路,经过设置于所述供液通路中的过滤装置过滤后,输送入喷头;

打开回液通路中的控制阀,所述喷头喷出的流体,经集液装置收集,通过所述集液装置流入所述回液通路,并经过设置于所述回液通路中的过滤装置过滤后,输送至所述供液装置;当初次清洗所述喷头时,控制所述集液装置内的流体流入废液收集装置。

7.根据权利要求6所述的控制方法,其特征在于,所述经过设置于所述供液通路中的过滤装置过滤后,输送入喷头,具体包括:

所述流体经所述过滤装置过滤后输送至设置在所述供液通路上的缓冲装置内;所述缓冲装置设置于所述供液装置与所述喷头之间;

当所述缓冲装置内的液位达到预设值,通过压力调节装置以及所述控制装置的电气比例阀,调整所述缓冲装置中的压力,使得所述缓冲装置内的流体以预设的输出压力输送入所述喷头;所述电气比例阀设置于所述压力调节装置与所述缓冲装置之间。

8.根据权利要求7所述的控制方法,其特征在于,所述打开回液通路中的控制阀,所述喷头喷出的流体,经集液装置收集,通过所述集液装置流入所述回液通路,并经过设置于所述回液通路上的过滤装置过滤后,输送至所述供液装置;当初次清洗所述喷头时,控制所述集液装置内的流体流入废液收集装置,具体包括:

开启设置在所述回液通路上的控制阀和真空度调节装置,所述喷头的喷孔喷出的流体流入所述集液装置内;

当初次清洗所述喷头时,通过所述真空度调节装置调整废液收集装置内的真空度,控制所述集液装置内的流体流入所述废液收集装置;

当第N次清洗所述喷头时,检测第一阀门处于关闭状态,开启第二阀门,通过所述真空度调节装置调整所述储液装置内的压力,控制所述集液装置内流体经过过滤装置过滤后,流入所述储液装置;N为大于或等于2的正整数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010102450.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top