[发明专利]一种显影液废液处理方法

说明书

本发明公开了一种显影液废液处理方法，涉及化工废液处理领域，主要为了解决目前液晶显示屏工厂废水站生化系统常采用的工艺会大幅降低生化系统的总氮去除负荷，从而使得生化系统水力停留时间长、占地面积大。本发明的显影液废液处理方法具有耐受进水TMAH浓度高、处理负荷高的特点，且本发明中厌氧生化工艺停留时间短、占地面积少、剩余污泥产量低，且反应过程无需曝气，处理能耗远低于好氧生化工艺；此外，本发明采用氨吹脱与酸吸收工艺对厌氧生化处理后的显影液废液进行处理，不仅避免了将废液直接排入工厂废水站后给废水站生化处理系统带来的高浓度氨氮冲击负荷，而且还能实现硫酸铵资源回收。

技术领域

本发明涉及化工废液处理领域，具体是一种显影液废液处理方法。

背景技术

液晶显示屏生产过程中产生高浓度显影液废液，废液的主要成分是四甲基氢氧化铵（Tetramethylammonium hydroxide, 简称TMAH），其浓度高达20000mg/L以上。TMAH是一种具有强碱性、腐蚀性及生物毒性的有机氮化合物，较难生物降解，在高浓度情况下对废水生化处理系统中的好氧微生物的活性有抑制。目前，液晶显示屏工厂显影液废液的处理方式主要有两种，一是将其作为危险废弃物直接外委处置，该种处理方式的费用极为高昂；另一种处理方式是将其以小流量输送至工厂废水站，通过其它大流量的有机废水进行稀释，降低废水中TMAH浓度后再进入生化系统处理。

目前液晶显示屏工厂废水站生化系统常采用A/O或A/A/O工艺，低浓度的TMAH首先在好氧微生物作用下转化为氨氮，然后经好氧硝化、缺氧反硝化过程实现总氮的去除。该种处理方式存在以下问题：（1）尽管低浓度的TMAH可以通过A/O或A/A/O工艺分解去除，但会大幅降低生化系统的总氮去除负荷，从而使得生化系统水力停留时间长、占地面积大。（2）A/O或A/A/O生化工艺承受进水TMAH浓度有限，当液晶显示屏工厂排放显影液废液量较大时，未能在厂内进行处理的废液仍需外委处置。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显影液废液处理方法，以解决上述问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种显影液废液处理方法，包括以下步骤：

1）PH调节

在显影液废液中加入酸性溶液，调节PH值至7.5-8.5；

步骤1）的目的在于使显影液废液中溶解的光刻胶转化为不溶态析出；

2）混凝沉淀

在经PH调节后的显影液废液中加入混凝剂，使析出的光刻胶凝聚为絮体；然后再加入絮凝剂，使光刻胶絮体抱团成为更密实的絮团；最后进行沉淀处理，其中沉淀污泥排入工厂废水站污泥脱水系统处理，沉淀上清液待进一步处理；

3）浓度调配

在步骤2）所得到的沉淀上清液中加入稀释水，使得显影液废液中内TMAH的浓度稀释至12000mg/L以下；

4）厌氧生化

对稀释后的显影液废液进行厌氧生化处理，降低显影液废液毒性，使得显影液废液中的TMAH分解转化为氨氮和甲烷气，TMAH去除率达99%以上，处理出水中氨氮浓度升高至1000-1500mg/L；

5）氨吹脱与酸吸收

对步骤4）中得到的厌氧生化反应出水进行氨吹脱与酸吸收处理，在吹脱过程中废水中高浓度氨氮由液相转移至气相，再经硫酸吸收后形成硫酸铵溶液；其中，制取的硫酸铵溶液可作为氮肥回收利用，吹脱后的废水中氨氮浓度降低至40mg/L以下，将其排入液晶显示屏工厂废水站生化系统进一步处理。

在进一步的方案中：所述步骤1）中所用的酸溶液为盐酸。