[发明专利]检测装置及光刻设备在审
| 申请号： | 202010182521.9 | 申请日： | 2020-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN113406086A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 韩雪山;申永强 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/956;G03F1/84;G03F7/20;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 检测 装置 光刻 设备 | ||
1.一种检测装置，其特征在于，所述检测装置包括：发光单元、遮光单元和探测单元；
所述发光单元用于提供光线；
所述遮光单元用于控制所述光线的通过，所述光线经过所述遮光单元后，部分所述光线入射至待检测结构并经所述待检测结构散射形成散射信号光；
所述探测单元用于接收所述散射信号光，以检测所述待检测结构的颗粒度。
2.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述遮光单元为吸光膜、滤光片或者遮光罩。
3.如权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述吸光膜的材质为金属。
4.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述遮光单元固定在所述待检测结构的上方，并且与所述待检测结构之间存在间隔。
5.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述待检测结构包括掩模板、玻璃基板和/或硅片。
6.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述发光单元为激光发射器。
7.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述探测单元为探测器、面阵相机和线阵相机中的至少一种。
8.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述待检测结构呈水平设置，所述发光单元提供的所述光线与竖直方向的夹角介于40°～85°。
9.如权利要求8所述的检测装置，其特征在于，所述探测单元接收的所述散射信号光与所述竖直方向的夹角介于50°～70°。
10.一种光刻设备，其特征在于，所述光刻设备包括如权利要求1～9中任一项所述的检测装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010182521.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
