[发明专利]杂配位铱配合物

权利要求书

1.化合物，其为具有下式的杂配位铱配合物:

其中X为O；

其中R₁、R₂、R₃和R₄可以表示单取代、二取代、三取代或四取代；并且

其中R₁、R₂、R₃和R₄各自独立地选自氢和具有四个或更少的碳原子的烷基。

2.权利要求1的化合物，其中R₁和R₄独立地选自氢和甲基。

3.权利要求1的化合物，其中R₂和R₃独立地选自氢和甲基。

4.权利要求1的化合物，其中R₂和R₃为氢。

5.权利要求1的化合物，其中R₁、R₂、R₃和R₄独立地选自氢和甲基。

6.权利要求1的化合物，其中R₁、R₂、R₃和R₄为氢。

7.权利要求1的化合物，其中该化合物选自：

8.权利要求1的化合物，其中该化合物选自：

9.第一器件，其包含有机发光器件，该有机发光器件包含：

阳极；

阴极；以及

位于该阳极和该阴极之间的有机层，该有机层包含化合物，该化合物为具有下式的杂配位铱配合物：

其中X为O；

其中R₁、R₂、R₃和R₄可以表示单取代、二取代、三取代或四取代；

其中R₁、R₂、R₃和R₄各自独立地选自氢和具有四个或更少的碳原子的烷基。

10.权利要求9的器件，其中该第一器件为消费产品。

11.权利要求9的器件，其中该化合物选自：

12.权利要求9的器件，其中该化合物选自：

13.权利要求9的器件，其中该有机层为发光层并且具有下式的化合物为发光掺杂剂：

14.权利要求9的器件，其中该有机层包含主体。

15.权利要求14的器件，其中该主体包含三亚苯结构部分和二苯并噻吩结构部分。

16.权利要求15的器件，其中该主体具有下式：

其中R’₁、R’₂、R’₄和R’₆可以表示单取代、二取代、三取代或四取代，其中R'₃和R'₅可以表示单取代、二取代或三取代，并且其中R’₁、R’₂、R’₃、R’₄、R’₅和R’₆各自独立地选自氢、烷基和芳基。