[发明专利]大面积钙钛矿太阳能电池组件用薄膜的涂布装置及涂布方法有效
申请号: | 202010224846.9 | 申请日: | 2020-03-26 |
公开(公告)号: | CN111282772B | 公开(公告)日: | 2023-09-08 |
发明(设计)人: | 杨松旺;陈宗琦;寿春晖;陈薪羽;邬荣敏;金胜利;黄绵吉;关键;刘寒梅;余志胜;俞峰苹 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所;浙江天地环保科技股份有限公司;浙江浙能技术研究院有限公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C9/14;B05C11/02;B05C11/10;B05D3/02;B05D1/26;B05D1/00;H10K71/12 |
代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 大面积 钙钛矿 太阳能电池 组件 薄膜 装置 方法 | ||
1.一种大面积钙钛矿太阳能电池组件用薄膜的涂布装置,其特征在于,包括:
底座;
涂布平台,安装于所述底座上,所述涂布平台的上表面供固定钙钛矿太阳能电池组件的基板;
涂布头,可沿涂布方向移动地安装于所述底座上,且所述涂布头沿垂直于涂布方向设置,所述涂布头位于所述涂布平台的上方,供在所述基板的表面涂布用以形成薄膜的溶液;
距离传感器,设置于所述涂布头的两端;涂布时,所述距离传感器可自动调整所述基板到所述涂布头的局部间距;
其中,所述涂布头和所述基板之间的局部间距连续可调;
所述涂布平台安装有视觉对位系统,包括互相连接的镜头、图像处理机以及供调整所述涂布平台位置的电机,通过所述图像处理机对所述镜头获取的图像进行处理从而确定所述涂布头相对于所述基板的位置偏差,并通过所述电机基于所述位置偏差调整涂布平台位置使得所述基板对齐所述涂布头;
其中,所述位置偏差是通过在基板上制作标记点,通过对标记点的图像进行位置运算,可得到基板相对于涂布平台的实际位置,再通过与预先设定的涂布头相对于涂布平台的位置进行对比,得到涂布头与基板的位置偏差。
2.根据权利要求1所述的大面积钙钛矿太阳能电池组件用薄膜的涂布装置,其特征在于,所述涂布头的两端通过涂布头高度调整器安装于所述底座从而相对于所述底座高度连续可调,和/或所述涂布平台在涂布方向上的两侧通过平台高度调整器安装于所述底座从而相对于所述底座高度连续可调,以实现所述涂布头和所述基板之间沿涂布方向上的局部间距的调节。
3.根据权利要求1所述的大面积钙钛矿太阳能电池组件用薄膜的涂布装置,其特征在于,所述涂布头的两端通过涂布头高度调整器安装于所述底座从而相对于所述底座高度连续可调,和/或所述涂布平台在垂直于涂布方向上的两侧通过平台高度调整器安装于所述底座从而相对于所述底座高度连续可调,以实现所述涂布头和所述基板之间沿垂直于涂布方向上的局部间距的调节。
4.根据权利要求2或3所述的大面积钙钛矿太阳能电池组件用薄膜的涂布装置,其特征在于,所述涂布头高度调整器为液压或丝杆,和/或所述平台高度调整器为液压或丝杆。
5.根据权利要求2或3所述的大面积钙钛矿太阳能电池组件用薄膜的涂布装置,其特征在于,所述平台高度调整器沿所述涂布平台的边缘设置。
6.根据权利要求1所述的大面积钙钛矿太阳能电池组件用薄膜的涂布装置,其特征在于,所述底座的两侧沿涂布方向设有滑轨,所述滑轨位于所述涂布平台的两侧,且所述滑轨上滑设有滑动座,所述滑动座与所述涂布头的两端连接,实现所述涂布头可沿涂布方向移动地安装于所述底座上。
7.根据权利要求1所述的大面积钙钛矿太阳能电池组件用薄膜的涂布装置,其特征在于,所述涂布平台安装有控温系统,包括布设于部分所述涂布平台内的加热器件、分布在所述涂布平台内部上表面且用于实时监控实测温度的热电偶以及连接于所述加热器件且供控制所述加热器件开启关闭的加热开关。
8.根据权利要求1所述的大面积钙钛矿太阳能电池组件用薄膜的涂布装置,其特征在于,所述距离传感器为激光传感器或笔式传感器。
9.一种根据权利要求1所述的大面积钙钛矿太阳能电池组件用薄膜的涂布装置的涂布方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一:用激光刻蚀机或化学刻蚀法在基板上制作标记点;
步骤二:用清洗液清洗所述基板后吹干;
步骤三:通过真空或机械定位等方式将所述基板置于所述涂布平台上,设定涂布参数后启动所述涂布装置,利用视觉对位系统和所述标记点调整所述基板与所述涂布头的相对位置,然后进行溶液的涂布,在涂布过程中,所述距离传感器实时监测所述涂布头与所述基板之间的局部间距,且所述涂布平台和/或涂布头自动调节以使所述涂布头与所述基板之间的局部间距处处一致,涂布完成后进行热处理,即在所述基板的表面形成所需的薄膜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海硅酸盐研究所;浙江天地环保科技股份有限公司;浙江浙能技术研究院有限公司,未经中国科学院上海硅酸盐研究所;浙江天地环保科技股份有限公司;浙江浙能技术研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010224846.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。