[发明专利]一种柔性基板、其制作方法及显示装置有效
申请号: | 202010254635.X | 申请日: | 2020-04-02 |
公开(公告)号: | CN111430424B | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 韩永占;侯鹏;夏维 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H10K59/10 | 分类号: | H10K59/10;H10K77/10;H10K71/80 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 张佳 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柔性 制作方法 显示装置 | ||
本发明提供了一种柔性基板、其制作方法及显示装置,其中,该柔性基板包括:至少两层柔性基底层,设置在相邻两所述柔性基底层之间的第一缓冲层,所述第一缓冲层包括层叠设置的硅化物层和非晶硅层,其中,所述硅化物层与所述非晶硅层接触的表面经粗化处理。用于提高柔性基板的制作良率,提高由柔性基板制作的显示装置的显示品质。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种柔性基板、其制作方法及显示装置。
背景技术
柔性基板由于质量轻、厚度薄、可弯曲等优点,在显示领域的应用越来越广泛。
目前,常将柔性基板用于制作显示面板。为了保证显示面板在使用中耐环境中水氧的侵蚀,现有柔性基板一般采用如图1所示的双层柔性衬底层和双层缓冲层的结构,该柔性基板的制备过程一般为:在玻璃基底1上涂布第一柔性衬底层2,经过高真空干燥和固化,形成需要的第一柔性衬底层2;然后,在第一柔性衬底层2上沉积一层氧化硅层3;然后,在氧化硅层3上沉积一层非晶硅层4,形成第一缓冲层5’;然后,在第一缓冲层5’上涂布第二柔性衬底层5,经过高真空干燥和固化,形成需要的第二柔性衬底层5;然后,在第二柔性衬底层5上沉积一层氧化硅层6,形成第二缓冲层6’;然后,剥离玻璃基底1。
由于起到黏结作用的非晶硅层4往往比较薄,一旦沉积不均匀,极易导致第一缓冲层5’和第二柔性衬底层5之间不能很好地黏结在一起,这样的话,所制成的柔性基板的良率较低,即便是在使用由该柔性基板制成的显示面板时,在弯折显示面板的过程中,第一缓冲层5’和第二柔性衬底层5之间容易产生分离的现象,从而影响显示面板的继续使用,进而降低显示品质。
发明内容
本发明提供了一种柔性基板、其制作方法及显示装置,用于提高柔性基板的制作良率,提高由柔性基板制作的显示装置的显示品质。
第一方面,本发明实施例提供了一种柔性基板,包括:
至少两层柔性基底层,设置在相邻两所述柔性基底层之间的第一缓冲层,所述第一缓冲层包括层叠设置的硅化物层和非晶硅层,其中,所述硅化物层与所述非晶硅层接触的表面经粗化处理。
在一种可能的实现方式中,所述至少两层柔性基底层包括第一柔性基底层和第二柔性基底层,第二缓冲层设置在所述第二柔性基底层背离所述第一柔性基底层的一侧,其中,所述硅化物层和所述非晶硅层依次背离所述第一柔性基底层设置。
在一种可能的实现方式中,所述硅化物层经粗化处理的表面形成微结构,其中,所述微结构的截面形状为梯形、矩形和弧形中的至少一种。
在一种可能的实现方式中,所述非晶硅层整层且连续设置在所述硅化物层上。
在一种可能的实现方式中,所述非晶硅层整层且间断设置在所述硅化物层上,且所述第二柔性基底层与所述硅化物层接触。
在一种可能的实现方式中,所述第二缓冲层和所述硅化物层为氮化硅、氧化硅中的任一种。
在一种可能的实现方式中,所述第一柔性基底层和所述第二柔性基底层的材料为聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯中的至少一种。
第二方面,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括:
如上面所述的柔性基板,设置在所述柔性基板上的阵列层和封装层。
第三方面,本发明实施例提供了一种如上面所述的柔性基板的制作方法,包括:
在衬底基板上涂布第一柔性基底层;
在所述第一柔性基底层上沉积所述硅化物层;
对所述硅化物层背离所述衬底基板的一侧进行粗化处理,形成经粗化处理的表面;
在所述硅化物层经粗化处理的表面上沉积一整层所述非晶硅层,形成包括所述硅化物层和所述非晶硅层的所述第一缓冲层;
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