[发明专利]一种低密度高应变点的无碱电子玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种低密度高应变点的无碱电子玻璃，其特征在于：玻璃组成摩尔百分比为3％的B₂O₃、19.5％的Al₂O₃、57％的SiO₂、20％的MgO和0.5％的SrO，外加澄清剂SnO₂为所述玻璃组成质量的0.2％。

2.根据权利要求 1所述的一种低密度高应变点的无碱电子玻璃，其特征在于：SiO₂、Al₂O₃为分析纯氧化物试剂；B₂O₃由分析纯H₃BO₃引入，MgO、SrO分别由分析纯MgCO₃、SrCO₃引入。

3.根据权利要求 1-2任一项所述的一种低密度高应变点的无碱电子玻璃，其特征在于制备步骤如下：

1)将摩尔百分比为3％的B₂O₃、19.5％的Al₂O₃、57％的SiO₂、20％的MgO、0.5％的SrO的基础玻璃组成换算成质量百分比，即质量百分含量，3.22％的B₂O₃、30.68％的Al₂O₃、52.86％的SiO₂、12.44％的MgO、0.8％的SrO；

2)将步骤1得到的基础玻璃的重量百分比换算成所需原料用量，加入原料用量总质量0.2％的SnO₂；

3)用分析天平准确称量各原料，随后将所有玻璃原料装入研钵或混料机中混合均匀，制得玻璃配合料；

4)将混合均匀的玻璃配合料置于刚玉坩埚、铂金坩埚或熔化池炉中，随后在高温箱式电阻炉或池炉中于1650～1680℃下熔融3h；

5)将熔制均匀的玻璃液倒入预热的不锈钢模具中成型，随后转移至680℃的马弗炉中退火10h，以消除玻璃结构中的残余热应力；

6)退火结束后，试样随炉冷却至室温，得到透明、无气泡、成分均匀的无碱电子玻璃，玻璃的密度为2.622g/cm³，应变点为738℃，热膨胀系数为28.21×10^-7/℃，抗弯强度为68MPa，在HF溶液中腐蚀20min的单位面积腐蚀量为5.541mg/cm²，在NaOH溶液中腐蚀6h的单位面积腐蚀量为2.114mg/cm²。