[发明专利]一种改进型ALD镀膜机在审
| 申请号： | 202010385822.1 | 申请日： | 2020-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN111364025A | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 郑锦;薛传洲;倪明;李蕊;吴俊冉 | 申请（专利权）人： | 南京原磊纳米材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/54 |
| 代理公司： | 北京专赢专利代理有限公司 11797 | 代理人： | 李斌 |
| 地址： | 211800 江苏省南京市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 改进型 ald 镀膜 | ||
1.一种改进型ALD镀膜机，其特征在于，
包括在内部安装有拿持结构的传送放置通道，和多个放置腔体；其中，
所述拿持结构可对位于传送放置通道内部的晶圆拿持取放到多个放置腔体内部的盒体中，营造真空环境后对盒体及晶圆进行翻转；
还包括多个ALD反应器，而放置腔体内部的盒体将晶圆移动到ALD反应器中进行单原子层沉积工艺反应。
2.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机，其特征在于，所述拿持结构包括机械手，用以晶圆取放。
3.根据权利要求2所述的一种改进型ALD镀膜机，其特征在于，所述拿持结构还包括机械人，机械手安装在机器人上，并利用机械手对位于传送放置通道内部的晶圆拿持取放到多个放置腔体内部的盒体中。
4.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机，其特征在于，所述放置腔体内部的盒体及晶圆进行50-120度的翻转。
5.根据权利要求4所述的一种改进型ALD镀膜机，其特征在于，所述放置腔体内部的盒体及晶圆进行90度的翻转。
6.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机，其特征在于，多个所述放置腔体为独立设置，并连通到ALD反应器，以用晶圆移动调整。
7.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机，其特征在于，多个所述ALD反应器为分开设置，用以分开完成镀膜。
8.根据权利要求1-7任一所述的一种改进型ALD镀膜机，其特征在于，所述改进型ALD镀膜机，还包括翻转升降机构，所述翻转升降机构设置在放置腔体内部，并完成将放置腔体内部的晶圆移动到ALD反应器中进行单原子层沉积工艺反应。
9.根据权利要求1-7任一所述的一种改进型ALD镀膜机，其特征在于，所述传送放置通道上设置有多个用于放置晶圆的装载盒。
10.根据权利要求1-7任一所述的一种改进型ALD镀膜机，其特征在于，所述放置腔体内部安装有用于形成真空的抽真空设备。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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