[发明专利]一种对位模块、对位设备、薄膜沉积生产线及控制方法

权利要求书

1.一种对位模块，其特征在于，所述对位模块被配置为制备显示面板，所述对位模块包括：

掩膜架(1)，所述掩膜架(1)被配置为承载掩膜板，所述掩膜架(1)通过定位结构定位于外部设备，并与所述外部设备可拆卸连接；

压板组件(2)，活动设置于所述掩膜架(1)一侧，所述压板组件(2)能够压紧对位后的基片与所述掩膜板；

磁吸组件(3)，所述磁吸组件(3)包括分别设置于所述掩膜架(1)上的第一磁吸件(31)，以及设置于所述压板组件(2)上的第二磁吸件(32)；

所述压板组件(2)压紧对位后的所述基片与所述掩膜板后，所述第一磁吸件(31)压紧于所述压板组件(2)，并与所述第二磁吸件(32)相互吸合，以使被压紧后的所述基片与所述掩膜板贴合。

2.根据权利要求1所述的对位模块，其特征在于，所述压板组件(2)包括：

压板(21)，所述压板(21)活动设置于所述掩膜架(1)的一侧，所述压板(21)能够压设于所述基片上；

提升板(22)，设置于所述压板(21)的上方，且能够向靠近或远离所述压板(21)的方向直线运动；

弹性连接件(23)，设置于所述压板(21)与所述提升板(22)之间。

3.根据权利要求2所述的对位模块，其特征在于，所述对位模块还包括：

连接件(4)，设置于所述压板(21)上，且所述连接件(4)与所述提升板(22)位于所述压板(21)的同一侧；

所述第一磁吸件(31)向与所述第二磁吸件(32)分离的方向运动，至所述第一磁吸件(31)与所述第二磁吸件(32)间隔第一预设距离时，所述连接件(4)钩挂所述第一磁吸件(31)，使得所述第一磁吸件(31)和所述连接件(4)能够同步运动。

4.一种对位设备，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的对位模块，还包括：

CCD对位机构，包括驱动平台(51)及探头组件，所述探头组件被配置为拍摄所述掩膜板上的第一Mark点的位置，以及所述基片上的第二Mark点的位置；

基片架组件(6)，位于所述驱动平台(51)的下方，所述基片架组件(6)被配置为承载所述基片；

第一升降驱动单元(8)，其设置于所述驱动平台(51)，所述第一升降驱动单元(8)能够驱动所述掩膜架(1)或所述基片架组件(6)上升或下降；

根据所述第一Mark点的位置和所述第二Mark点的位置，所述驱动平台(51)能够驱动所述第一升降驱动单元(8)、及所述掩膜架(1)或者基片架组件(1)在水平面内移动，以使所述基片与所述掩膜板对位，所述第一升降驱动单元(8)使对位后的所述基片放置于所述掩膜板上；

第二升降驱动单元(9)，其输出端钩挂连接于所述第一磁吸件(31)，所述第二升降驱动单元(9)能够驱动所述第一磁吸件(31)和所述压板组件(2)上升或下降。

5.根据权利要求4所述的对位设备，其特征在于，所述探头组件位于所述基片架组件(6)的上方和/或下方。

6.根据权利要求4所述的对位设备，其特征在于，所述基片为硅基片，所述探头组件位于所述基片架组件(6)下方。

7.根据权利要求4所述的对位设备，其特征在于，所述对位设备还包括：

第三升降驱动单元(10)，设置于所述驱动平台(51)；

下压单元，连接于所述第三升降驱动单元(10)的输出端，所述第三升降驱动单元(10)能够驱动所述下压单元上升或下降；所述下压单元能够下压压紧对位后的所述基片与所述掩膜板后的所述压板组件(2)。