[发明专利]一种双相结构高熵合金的制备方法在审
| 申请号： | 202010406679.X | 申请日： | 2020-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN111441026A | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 操振华;张子鉴;翟高阳;李鹏飞 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/58;C22C30/00 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 徐冬涛 |
| 地址： | 210009 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 结构 合金 制备 方法 | ||
1.一种双相结构高熵合金的制备方法，其特征在于，采用直流溅射交替沉积软相和硬相层，两相呈交替的层状分布，调控软相和硬相体积比和晶粒尺寸，然后再进行真空退火处理，获得双相层状结构高熵合金。
2.根据权利1所述的制备方法，其具体步骤为：
步骤1，衬底表面清洗和靶材预溅射，其中预溅射控制本底真空为1.0×10-3至1.0×10-5Pa，工作压力为0.8-1.2Pa；
步骤2，溅射沉积一层bcc结构的硬相层，其中溅射功率为100-500W；
步骤3，溅射沉积一层fcc结构的软相层，其中溅射功率为100-500W；
步骤4，重复步骤2和步骤3，获得不同相体积比，制备出沉积态双相层状高熵合金；
步骤5，最后再进行退火处理，最终制得双相结构高熵合金。
3.根据权利2所述的方法，其特征在于步骤2中bcc结构的硬相层为NbMoTaW、TiZrHfNbTa或NbTiVTa。
4.根据权利2所述的方法，其特征在于步骤2中硬相单层厚度为10-1000nm；晶粒尺寸为10-200nm。
5.根据权利2所述的方法，其特征在于步骤3中fcc结构的软相层为CoCrNi或CoCrNiFeMn。
6.根据权利2所述的方法，其特征在于步骤3中软相单层厚度为10-1000nm；晶粒尺寸为10-200nm。
7.根据权利2所述的方法，其特征在于步骤4中fcc相与bcc相体积比为1-100。
8.根据权利2所述的方法，其特征在于步骤4中双相高熵合金沉积总厚度为4-10μm。
9.根据权利2所述的方法，其特征在于步骤5中退火温度为200-400℃，退火时间为1-2h。
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