[发明专利]元件侦测方法在审

专利信息
申请号: 202010525578.4 申请日: 2020-06-10
公开(公告)号: CN113779920A 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 倪崇胜;魏智斌 申请(专利权)人: 英业达科技有限公司;英业达股份有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 徐秋平
地址: 201112 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 元件 侦测 方法
【权利要求书】:

1.一种元件侦测方法,执行于电脑可读取记录媒体的电脑辅助设计软件,其特征在于,该元件侦测方法包含:

建立最大包络空间,其中该最大包络空间的体积不小于结构组件的体积;

根据该最大包络空间建立侦测空间模型,其中该侦测空间模型包含该结构组件的待侦测面;

选取位于该结构组件的表面的元件,以取得该结构组件的该元件的元件信息,其中该侦测空间模型包含该元件的至少一部分;以及

汇出包含该元件信息的元件清单。

2.根据权利要求1所述的元件侦测方法,其特征在于,该最大包络空间具有面,根据该最大包络空间建立该侦测空间模型包含:

建立初始空间模型邻接该最大包络空间,且该初始空间模型的初始表面贴接该最大包络空间的该面;以及

将该初始表面朝向该待侦测面移动使该初始空间模型包含该待侦测面,并定义包含该待侦测面的该初始空间模型为该侦测空间模型。

3.根据权利要求2所述的元件侦测方法,其特征在于,将该初始表面朝向该待侦测面移动包含:

移动该初始表面通过该待侦测面以形成该侦测空间模型,且定义该侦测空间模型的该初始表面为侦测表面。

4.根据权利要求3所述的元件侦测方法,其特征在于,移动该初始表面通过该待侦测面以形成该侦测空间模型为:

移动该初始表面使该侦测表面与该待侦测面之间具有预设距离。

5.根据权利要求4所述的元件侦测方法,其特征在于,该结构组件的该待侦测面包含基板,该预设距离是该基板的厚度,且该厚度的方向平行于该侦测表面。

6.根据权利要求1所述的元件侦测方法,其特征在于,在取得该元件信息后,并在汇出包含该元件信息的该元件清单之前,该侦测方法还包含:

依据该元件信息从预存元件清单筛选出关联于该结构组件的该元件清单。

7.根据权利要求1所述的元件侦测方法,其特征在于,在取得该元件信息后,该侦测方法还包含:

判断预存元件清单是否包含该元件信息;以及

当判断预存元件清单不包含该元件信息时,以该元件信息更新该预存元件清单。

8.根据权利要求7所述的元件侦测方法,其特征在于,当判断该预存元件清单不包含该元件信息时,该侦测方法还包含:

将关联于该元件信息的电脑辅助设计文件储存至存储器。

9.根据权利要求1所述的元件侦测方法,其特征在于,取得该最大包络空间包含:

建立包含该结构组件的坐标系;以及

以该结构组件所占据的空间作为该最大包络空间,或以该结构组件的表面朝远离该结构组件的方向扩张,以于该坐标系中界定该最大包络空间。

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