[发明专利]用于反应堆的屏蔽组件及其屏蔽结构有效

专利信息
申请号: 202010529703.9 申请日: 2020-06-11
公开(公告)号: CN111627575B 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 郭志家;衣大勇;吕征;陈会强;邵静;戴守通;范月容;孙征;姚成志;赵守智;柯国土;刘天才;冯嘉敏;张金山;石辰蕾;周寅鹏;彭朝晖;殷保稳;刘磊;史同振 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G21C11/02 分类号: G21C11/02;G21C13/073
代理公司: 北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司 11493 代理人: 王鹏鑫
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 反应堆 屏蔽 组件 及其 结构
【权利要求书】:

1.一种用于反应堆容纳结构(200)的屏蔽结构(100),其中,所述反应堆容纳结构(200)限定出用于容纳至少部分反应堆(300)且具有开口的容纳腔(210),所述屏蔽结构(100)包括:

屏蔽本体(10),所述屏蔽本体(10)具有连接部(20),所述连接部(20)用于与所述反应堆容纳结构(200)连接以使所述屏蔽本体(10)覆盖所述开口,从而减少所述至少部分反应堆(300)产生的至少部分辐射由所述开口向所述容纳腔(210)外泄漏;

所述屏蔽本体(10)包括:沿所述容纳腔(210)的延伸方向布置的至少一个第一屏蔽体(11)和至少一个第二屏蔽体(12),每个所述第一屏蔽体(11)包括沿所述开口的延伸方向布置的多个第一子屏蔽体(110)。

2.根据权利要求1所述的屏蔽结构(100),其中,

所述第一屏蔽体(11)由屏蔽第一辐射的屏蔽材料制成,所述第二屏蔽体(12)由屏蔽与所述第一辐射不同的第二辐射的屏蔽材料制成,从而使得所述屏蔽本体(10)在覆盖所述开口时,减少所述至少部分反应堆(300)产生的至少部分所述第一辐射以及至少部分所述第二辐射由所述开口向所述容纳腔(210)外泄漏。

3.根据权利要求2所述的屏蔽结构(100),其中,每个所述第一子屏蔽体(110)包括:

第一板状物(111)、与所述第一板状物(111)相对设置的第二板状物(112)、支撑件(113)和第一填充物(114),其中

所述支撑件(113)连接所述第一板状物(111)以及所述第二板状物(112),以与所述第一板状物(111)、所述第二板状物(112)共同限定出屏蔽腔;且

所述第一填充物(114)设置于所述屏蔽腔。

4.根据权利要求3所述的屏蔽结构(100),其中,所述第一板状物(111)、所述第二板状物(112)和所述支撑件(113)由金属材料制成,所述第一填充物(114)包括混凝土。

5.根据权利要求3所述的屏蔽结构(100),其中,所述至少一个第一屏蔽体(11)为沿所述容纳腔(210)的延伸方向布置的多个第一屏蔽体(11),并且,

设置在相对远离所述容纳腔(210)的腔底的所述第一屏蔽体(11)在所述容纳腔(210)的延伸方向的垂直平面上的正投影覆盖

设置在相对靠近所述容纳腔(210)的腔底的所述第一屏蔽体(11)在所述垂直平面上的正投影。

6.根据权利要求5所述的屏蔽结构(100),其中,所有所述第一子屏蔽体(110)之间的接触面在所述垂直平面上的多条投影线没有交点。

7.根据权利要求5所述的屏蔽结构(100),其中,至少部分相邻的所述第一屏蔽体(11)配置成

设置于所述反应堆容纳结构时在所述相邻的所述第一屏蔽体(11)间产生容纳空间,至少一个所述第二屏蔽体(12)设置在所述容纳空间,并且,

所述相邻的所述第一屏蔽体(11)中,靠近所述容纳腔(210)的腔底的所述第一屏蔽体(11)用于支撑设置在所述容纳空间内的所有所述第二屏蔽体(12),

所述容纳空间内的所有所述第二屏蔽体(12)中,远离所述容纳腔(210)的腔底的所述第二屏蔽体(12)与所述相邻的所述第一屏蔽体(11)中远离所述容纳腔的腔底的所述第一屏蔽体(11)间隔设置。

8.根据权利要求2所述的屏蔽结构(100),其中,

每个所述第二屏蔽体(12)包括沿所述开口的延伸方向布置的多个第二子屏蔽体(120),所述多个第二子屏蔽体(120)之间的接触面至少包括曲面或延伸方向不同的多个子接触面。

9.根据权利要求1所述的屏蔽结构(100),其中,

所述连接部(20)包括开设于所述屏蔽本体(10)的至少一个连接孔(21),所述至少一个连接孔(21)用于连接连接件,所述连接孔(21)通过所述连接件与所述反应堆容纳结构(200)连接。

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