[发明专利]指纹识别传感器、显示面板和指纹识别传感器的制作方法

权利要求书

1.一种指纹识别传感器，其特征在于，所述指纹识别传感器包括：

基底；

识别单元，设置在所述基底上；

滤光结构，设置于所述识别单元远离所述基底的一侧，并被配置为对外界进入所述识别单元的光线进行过滤。

2.如权利要求1所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述滤光结构被配置为对波长大于等于600纳米的光线中的至少一部分或全部有滤除作用。

3.如权利要求1或2所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述滤光结构为滤光片，所述滤光片被配置为允许波长范围在430纳米至570纳米的光线透过。

4.如权利要求3所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述滤光片为青色滤光片。

5.如权利要求1所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述指纹识别传感器还包括信号传导单元，所述信号传导单元电连接于所述识别单元；所述信号传导单元包括有源层；

所述指纹识别传感器还包括第一遮光层和/或第二遮光层；所述第一遮光层设置于所述有源层的上方；所述第二遮光层设置于所述有源层的下方。

6.如权利要求5所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述第一遮光层和/或所述第二遮光层在所述基底上的正投影面积大于等于所述有源层在所述基底上的正投影面积。

7.如权利要求5所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述识别单元包括光电二极管；

所述第一遮光层远离所述光电二极管的上方。

8.如权利要求1所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述识别单元包括光电二极管、导电膜和识别电极层；

所述导电膜设置于所述光电二极管和识别电极层之间，在所述导电膜和所述光电二极管的接触处，所述导电膜的面积小于等于所述光电二极管的面积，并且，所述导电膜在所述基底上的正投影落入所述光电二极管在所述基底上的正投影内。

9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示单元和如权利要求1-8中任意一项所述的指纹识别传感器。

10.一种指纹识别传感器的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

提供基底；

在所述基底上形成识别单元；

在所述识别单元的上方形成滤光结构。

11.如权利要求10所述的指纹识别传感器的制作方法，其特征在于，所述指纹识别传感器的制作方法还包括：

在所述基底上形成信号传导单元；

在所述信号传导单元的上方形成第一遮光层。

12.如权利要求10所述的指纹识别传感器的制作方法，其特征在于，在所述基底上形成识别单元的步骤之前，还包括以下步骤：

在所述基底上形成第二遮光层；

所述指纹识别传感器的制作方法还包括：在所述基底上形成信号传导单元；

其中，所述信号传导单元位于所述第二遮光层的上方。