[发明专利]指纹识别传感器、显示面板和指纹识别传感器的制作方法

说明书

本申请公开了一种指纹识别传感器、显示面板和指纹识别传感器的制作方法。指纹识别传感器包括基底、识别单元和滤光结构。所述识别单元设置在所述基底上。所述滤光结构设置于所述识别单元远离所述基底的一侧，并被配置为对外界进入所述识别单元的光线进行过滤。通过上述设置，滤光结构可以过滤掉干扰光线，避免或减少穿透手指进入识别单元的干扰光线，提升了指纹识别传感器的识别精度。

技术领域

本申请涉及指纹识别领域，特别涉及一种指纹识别传感器、显示面板和指纹识别传感器的制作方法。

背景技术

随着科学技术的不断发展，指纹识别技术已经逐渐应用到人们的日常生活中。指纹识别技术可通过比较不同指纹的细节特征点来进行鉴别，从而达到身份识别的功能。

目前，最常使用的指纹识别技术为光学指纹识别技术。

基于光学指纹识别技术的指纹识别传感器主要包括对光线具有敏感性的识别单元，识别单元可以识别手指反射回来的光。由于指纹包括谷和脊，导致被指纹反射回到识别单元的光的强度有差异。识别单元可将光强信号转换成电信号，并根据该电信号判断指纹中谷和脊的位置，从而实现指纹识别的功能。

然而，上述指纹识别传感器在精准识别方面仍有改善的空间。

发明内容

本申请提供了一种指纹识别传感器、显示面板和指纹识别传感器的制作方法，其可提升指纹识别传感器的识别精度。

根据本申请的第一方面，提供一种指纹识别传感器，所述指纹识别传感器包括：

基底；

识别单元，设置在所述基底上；

滤光结构，设置于所述识别单元远离所述基底的一侧，并被配置为对外界进入所述识别单元的光线进行过滤。

进一步的，所述滤光结构被配置为对波长大于等于600纳米的光线中的至少一部分或全部有滤除作用。

进一步的，所述滤光结构为滤光片，所述滤光片被配置为允许波长范围在430纳米至570纳米的光线透过。

进一步的，所述滤光片为青色滤光片。

进一步的，所述指纹识别传感器还包括信号传导单元，所述信号传导单元电连接于所述识别单元；所述信号传导单元包括有源层；

所述指纹识别传感器还包括第一遮光层和/或第二遮光层；所述第一遮光层设置于所述有源层的上方；所述第二遮光层设置于所述有源层的下方。

进一步的，所述第一遮光层和/或所述第二遮光层在所述基底上的正投影面积大于等于所述有源层在所述基底上的正投影面积。

进一步的，所述识别单元包括光电二极管；

所述第一遮光层远离所述光电二极管的上方。

进一步的，所述识别单元包括光电二极管、导电膜和识别电极层；

所述导电膜设置于所述光电二极管和识别电极层之间，在所述导电膜和所述光电二极管的接触处，所述导电膜的面积小于等于所述光电二极管的面积，并且，所述导电膜在所述基底上的正投影落入所述光电二极管在所述基底上的正投影内。

根据本申请的第二方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括显示单元和上述的指纹识别传感器。

根据本申请的第三方面，提供一种指纹识别传感器的制作方法，所述制作方法包括：

提供基底；

在基底上形成识别单元；

在识别单元的上方形成滤光结构。

进一步的，指纹识别传感器的制作方法还包括：