[发明专利]一种Ti-Al-N-Nb四元涂层的制备方法在审
申请号: | 202010727574.4 | 申请日: | 2020-07-24 |
公开(公告)号: | CN111945151A | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 赵梓钧;刘伟;孙兵兵;雷杨;熊华平;周标 | 申请(专利权)人: | 中国航发北京航空材料研究院 |
主分类号: | C23C24/10 | 分类号: | C23C24/10 |
代理公司: | 中国航空专利中心 11008 | 代理人: | 杜永保 |
地址: | 100095 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 ti al nb 涂层 制备 方法 | ||
本发明属于高温防护涂层的制备技术领域,特别涉及一种Ti‑Al‑N‑Nb四元涂层的制备方法。以激光为能量源,利用送粉式激光快速成形设备,通过设置合理的工艺参数,以市售的Ti2AlNb粉作为原料,在喷砂处理后的成形基板上直接熔化沉积获得Ti‑Al‑N‑Nb四元涂层,得到的Ti‑Al‑N‑Nb四元涂层致密无缺陷,涂层中氮化物主要以枝晶的形式存在。本方法制备Ti‑Al‑N‑Nb四元涂层过程无需模具,涂层成形质量好,组织均匀,具有较好的综合力学性能。
技术领域
本发明属于于高温防护涂层的制备技术领域,涉及一种送粉式激光快速成形技术,特别涉及一种Ti-Al-N-Nb四元涂层的制备方法。
背景技术
随着制造业领域的发展,人们对金属性能的要求愈来愈高。目前,在不降低金属整体性能的前提下,改性、涂覆等表面强化技术是提高金属使用寿命的有效途径。氮化物硬质膜层具备拥有高硬度、高耐磨性、高熔点、良好的热稳定性、优越的高温强度以及优异的化学惰性等特点的潜力,适用于高速切削高合金钢、不锈钢、钛合金、镍基合金等材料,已然成为国内外研究热点并被广泛应用。
如今已形成产业化且广泛应用的氮化物硬质涂层为TiN涂层。该涂层具备良好的耐磨性能和机械性能,但是当使用温度达到临界氧化温度时,该涂层会快速氧化失效进而失去防护能力。Ti-Al-N三元涂层由于其氧化温度高、热硬性好、附着力强、热导率低等特点,弥补了TiN涂层不能在高温条件下继续服役的不足。基于固溶强化和复杂合金化思想,研究人员考虑在Ti-Al-N三元氮化物的基础上添加合金元素(Nb、Cr、Zr、W、Hf、Ta、Y、Mo、V等)从而得到四元甚至更多元的氮化物涂层,基于不同合金元素的性能,相比于Ti-Al-N三元涂层,该类涂层在膜基结合力、硬度、抗氧化性、耐磨性等方面均得到了不同程度的改善。
但目前鲜有多元(四元以上)氮化物硬质涂层的制备方法,现有技术中均通过离子沉积原理形成涂层。如:
专利(201310515573.3)特征主要为采用多弧离子镀技术制备氮化钛铝铌氮梯度硬质反应膜。该方法主要原理是采用电弧放电使阴极靶材蒸发,蒸发离子在基材表面沉积从而形成薄膜。该方法可通过调节外加磁场大小控制涂层成形,且成膜速率快,涂层致密度以及膜基结合力较高。但该过程中受到真空环境的制约,产品尺寸形状受到限制,涂层表面光洁度较低。
专利(CN201711182033.2)以及专利(CN201410046151.0)均采用磁控溅射技术分别制备了TiAlVN和TiAlCrN多元涂层。磁控溅射的主要原理是低气压环境下,电子通过电场作用与工作气体碰撞形成高能粒子,高能粒子轰击靶材溅射出原子,使其沉积在基体从而获得涂层。该方法得到的涂层均匀性好,表面光洁度及厚度可得到控制,沉积速率较高,膜基结合力较好,但与多弧离子镀方法类似,该过程中需在低气压的密闭环境下进行,产品尺寸形状受限,涂层厚度较薄。
因此,开发出一种能够解决上述问题的多元(四元以上)氮化物硬质涂层的制备方法非常有必要。
发明内容
本发明针对上述问题,提供了一种以高能激光束为热源,制备Ti-Al-N-Nb四元涂层的方法。
为解决此技术问题,本发明的技术方案是:
一种Ti-Al-N-Nb四元涂层的制备方法,所述的Ti-Al-N-Nb四元涂层的制备方法以Ti2AlNb粉末为原材料,采用送粉式激光成形技术制备Ti-Al-N-Nb四元涂层,涂层中氮化物主要以枝晶的形式存在,制备过程包括以下步骤:
步骤一、对基板进行喷砂处理;
步骤二、将粒度均匀的Ti2AlNb粉末置于激光快速成形系统的送粉器中,以一定比例的氮气和氩气的混合气体为载粉气体和保护气;
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