[发明专利]一种地坑、包括该地坑的RCS微波暗室以及在该暗室内更换支架的方法

权利要求书

1.一种RCS微波暗室内的地坑，其特征在于，所述地坑包括第一区域和第二区域；

第一区域布置有底部滑轨、倒伏金属支架、盖板；所述底部滑轨设置在第一区域的底部；所述倒伏金属支架滑动连接在所述底部滑轨上；所述盖板包括翻转盖板和滑动盖板，所述翻转盖板和所述滑动盖板上均覆盖有吸波材料，所述滑动盖板的长度不低于第二区域的长度；所述翻转盖板远离第二区域，所述滑动盖板靠近第二区域；所述翻转盖板可沿地坑边缘进行翻转；所述滑动盖板可在第一区域与第二区域之间滑动；

第二区域布置有用以放置泡沫支架的支撑台。

2.根据权利要求1所述的地坑，其特征在于，

所述地坑两侧的侧壁上均设置有侧壁滑轨，所述滑动盖板与所述侧壁滑轨滑动连接。

3.根据权利要求1所述的地坑，其特征在于，

所述支撑台为高度固定结构，所述支撑台的高度低于所述滑动盖板。

4.根据权利要求1所述的地坑，其特征在于，

所述支撑台为高度可调结构。

5.根据权利要求4所述的地坑，其特征在于，

所述支撑台包括支撑本体和固定在支撑本体上表面的升降平台；使用泡沫支架时，所述泡沫支架被放置在所述升降平台，通过调节升降平台的高度使所述泡沫支架的高度满足测试要求。

6.根据权利要求1所述的地坑，其特征在于，

所述倒伏金属支架包括支架本体和与所述支架本体连接的支架底座；所述支架本体与所述支架底座之间的连接方式为活动连接；所述支架底座与所述底部滑轨滑动连接。

7.根据权利要求1所述的地坑，其特征在于，

所述吸波材料为角锥吸波材料。

8.根据权利要求1至7任一项所述的地坑，其特征在于，

所述翻转盖板包括：

盖板本体，在所述盖板本体上覆盖有吸波材料；

第一伸缩机构，所述第一伸缩机构设置在地坑内，所述第一伸缩机构的伸缩部上端与所述盖板本体的下侧面转动连接，所述第一伸缩机构的伸缩部能够在所述地坑的深度方向上伸缩，并且其伸出所述地坑的高度不低于暗室地面吸波材料的高度；

第二伸缩机构，所述第二伸缩机构设置在地坑内，所述第二伸缩机构的伸缩部上端与所述盖板本体的下侧面转动连接，所述第二伸缩机构的伸缩部能够在所述地坑的深度方向上伸缩，并且其伸出所述地坑的高度高于所述第一伸缩机构的伸缩部伸出所述地坑的高度；

打开所述盖板主体时，所述第一伸缩机构和所述第二伸缩机构的伸缩部同步伸出所述地坑，且高度不低于暗室地面吸波材料的高度后，所述第二伸缩机构的伸缩部继续伸出，使所述盖板本体能够依所述第一伸缩机构的伸缩部为支点进行翻转；

关闭所述盖板主体时，所述第二伸缩机构的伸缩部下降带动所述盖板主体翻转并恢复水平状态，所述第一伸缩机构和所述第二伸缩机构的伸缩部同步下降，使所述盖板主体关闭。

9.一种RCS微波暗室，其特征在于，包括权利要求1至8任一项所述的地坑。

10.一种在权利要求9所述的RCS微波暗室内更换支架的方法，其特征在于，所述方法包括：

当由倒伏金属支架更换为泡沫支架时：将所述翻转盖板向上翻转，再将所述倒伏金属支架倒伏与地坑内，然后将所述翻转盖板向下翻转至原位，将所述滑动盖板由第二区域移动至第一区域，最后将泡沫支架放置在所述支撑台上；

当由泡沫支架更换为倒伏金属支架时，将泡沫支架移走，再将所述翻转盖板向上翻转，并将所述滑动盖板滑动至第二区域，然后将倒伏金属支架升起，向第二区域方向移动，移动到目标区域后，将所述翻转盖板向下翻转至原位。