[发明专利]含氮缺陷结构Z型氮化碳-氧化铁催化剂的制备方法及应用有效
申请号: | 202011108636.X | 申请日: | 2020-10-14 |
公开(公告)号: | CN112371146B | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 荣新山;张仕贤;荣坚;周向同;吴智仁 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | B01J27/24 | 分类号: | B01J27/24;B01J35/00;C01C1/02 |
代理公司: | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人: | 周新楣 |
地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 缺陷 结构 氮化 氧化铁 催化剂 制备 方法 应用 | ||
本发明为含氮缺陷结构Z型氮化碳‑氧化铁催化剂的制备方法及应用,属于光催化材料合成技术领域,涉及含氮缺陷结构石墨型氮化碳(g‑C3Nx)的改性,并复合氧化铁(Fe2O3)制备一种含氮缺陷结构Z型氮化碳‑氧化铁光催化剂(g‑C3Nx/Fe2O3),包括:以尿素、三聚氰胺或硫脲为氮化碳前驱体;以氨水、氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化钡等碱为辅料;以草酸铁、草酸亚铁及硫酸亚铁等为铁源,经一步焙烧法250~650℃加热2~8 h经程序降温冷却至室温,研磨成粉末后经水洗、离心及烘干后而成。本发明操作简单,在常规g‑C3N4引入氮缺陷结构制备g‑C3Nx,并与铁盐同步焙烧复合Fe2O3,并将该催化剂应用于光催化固氮产氨。实验结果表明,所制备催化剂具有较好的光催化固氮产氨性能,对光催化绿色合成氨有推广作用,节能环保。
技术领域
本发明属于光催化材料合成技术领域,涉及光响应型催化剂,特别涉及含氮缺陷结构石墨型氮化碳(g-C3Nx)的改性,并复合氧化铁(Fe2O3)制备一种含氮缺陷结构Z型氮化碳-氧化铁光催化剂(g-C3Nx/Fe2O3)及其可见光催化固氮应用。
背景技术
氨是现代工业和农业的基础,同时也是洁净能源的重要载体之一。随着对氨需求量的日益增长,人工固氮合成氨的研究受到广泛关注。目前人工固氮主要采用的Haber-Bosch法,需要在高温300-550℃和高压15-25 MPa条件下反应合成氨,该方法存在能耗高、二氧化碳排放量大等弊端,带来较严重的能源损耗与环境污染问题。随着光催化技术的蓬勃发展,利用太阳能在温和条件下实现光催化固氮合成氨,成为固氮领域研究的热点。光催化固氮主要是催化剂在光的激发下产生空穴与电子,通过水(H2O)的氧化放氧和氮气(N2)的还原质子化两个反应步骤实现合成氨。石墨型氮化碳(g-C3N4)具有适中的带隙宽度(≈2.7eV),以及较强的氧化还原能力(VB: ≈ 1.57 eV vs. NHE;CB: ≈ -1.13 eV vs. NHE),在可见光照射下光催化固氮具有可行性。另外,g-C3N4作为一种可见光响应型的非金属半导体材料,具有较强的物化稳定性与能带结构可调等特点,因而在光催化合成氨领域受到广泛关注。然而,常规合成的块状g-C3N4在光催化反应中面临活性界面小、电子-空穴易复合及对N2分子的吸附/活化弱等问题的困扰。经与半导体复合,且设计为Z型光催化结构,在抑制电子-空穴复合的基础上,同时可保留具有较强氧化还原能力的反应位点。
Chinese Journal of Catalysis, 2018, 39: 1180-1188,报道通过对光催化剂进行缺陷结构设计,可有效地增强对N2分子的吸附,并且可作为活化N2分子及光催化固氮反应的活性中心。但该研究未涉及在光激发下电子转移机制的研究;
ACS Applied Materials Interfaces, 2019, 11: 27686-27696,报道通过设计Z型光催化结构,在抑制电子-空穴复合的基础上,同时可保留具有较强氧化还原能力的反应位点。该研究讲述了电子转移路线的设计可有效提高光子利用率,但未涉及催化剂结构的调节对N2分子吸附/活化性能的影响;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏大学,未经江苏大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011108636.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。