[发明专利]一种压强可控的球磨机二次筛选回流的机构

权利要求书

1.一种压强可控的球磨机二次筛选回流的机构，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)的内部顶面活动连接有丝杆(2)，所述壳体(1)的内部顶面活动连接有入料口(24)，所述壳体(1)的内部底面活动连接有出料口(26)，所述丝杆(2)的底部固定连接有丝杆齿盘(3)，所述第一永磁铁(4)的下方通过弹簧固定连接有第一磁导体(5)，所述第一磁导体(5)的底部固定连接有筛选杆(13)，所述筛选杆(13)的表面固定连接有离心圆盘(6)，所述离心圆盘(6)的表面活动连接有旋转圆盘座(7)，所述旋转圆盘座(7)的表面活动连接有压电材料(8)，所述丝杆(2)的表面啮合有有主动齿轮(9)，所述主动齿轮(9)的表面活动连接有离心摆动杆(11),所述离心摆动杆(11)的表面活动连接有摩擦滑块(15),所述主动齿轮(9)的表面固定连接有拉伸绳(14),所述拉伸绳(14)的表面活动连接有离心轮(10),所述离心轮(10)的表面活动连接有喷气动力杆(16),所述喷气动力杆(16)远离离心轮(10)的一端活动连接有压缩块(22),所述压缩块(22)的表面活动连接有喷剂头(23)，所述拉伸绳(14)的表面活动连接有定滑轮(12)，所述拉伸绳(14)远离定滑轮(12)的一端固定连接有推料块(19)，所述推料块(19)的表面固定连接有触点(20)，所述触点(20)的下方固定连接有接触头(21)，所述壳体(1)的内部固定连接有第二磁导体(18)，所述第二磁导体(18)的表面通过弹簧活动连接有第二永磁铁(17)。

2.根据权利要求1所述的一种压强可控的球磨机二次筛选回流的机构，其特征在于：所述壳体(1)位于摩擦滑块(15)的位置开设有滑槽，且摩擦滑块(15)的表面与壳体(1)接触处开设有滑槽孔。

3.根据权利要求1所述的一种压强可控的球磨机二次筛选回流的机构，其特征在于：所述推料块(19)的上顶面为倾斜面，壳体(1)的内部底面为倾斜面，且壳体(1)的内部第二永磁铁(17)处开设有倾斜滑道,且过滤网(25)的高度高于倾斜滑道的高度。

4.根据权利要求1所述的一种压强可控的球磨机二次筛选回流的机构，其特征在于：所述丝杆(2)的表面贯穿有轴承，筛选杆(13)上连接的下层筛选网尺寸小于过滤网(25)的尺寸。

5.根据权利要求1所述的一种压强可控的球磨机二次筛选回流的机构，其特征在于：所述压电材料(8)的顶部固定有弹簧，喷剂头(23)的内部固定连接有弹簧，喷剂头(23)的内部开设有滑槽，第一磁导体(5)的内部开设有滑槽。

6.根据权利要求1所述的一种压强可控的球磨机二次筛选回流的机构，其特征在于：所述壳体(1)的内部固定连接有喷剂头(23)，喷剂头(23)内部活动连接有连杆，壳体(1)的内部第二永磁铁(17)处开设有滑槽，壳体(1)的内壁喷剂头(23)处开设有通孔。