[发明专利]蒸镀掩模、组件、装置、显示装置及其制造方法和装置

说明书

本发明提供了一种蒸镀掩模制造方法，该方法包括步骤：提供一金属卷材，所述金属卷材的厚度T满足关系式：5um≤T≤40um；分别在所述金属卷材的上表面及下表面真空贴合干膜光阻，通过曝光显影将所述干膜光阻图案化；通过图案化的所述干膜光阻刻蚀所述上表面形成第一面侧，在所述第一面侧真空贴合树脂以填埋所述第一凹部；通过图案化的所述干膜光阻刻蚀所述下表面形成第二面侧，定义一垂直所述上表面与所述下表面的纵截面，且所述第一开口的纵截面宽度为D，所述贯通孔的纵截面宽度为F，满足关系式：1um≤D‑F≤4um。使得蒸镀掩模制造过程中，避免第一次刻蚀直接蚀穿金属卷材。

【技术领域】

本发明涉及光学掩模板技术领域，尤其涉及一种蒸镀掩模、组件、装置、显示装置及其制造方法和装置。

【背景技术】

近年来，智能手机和平板电脑等移动终端上使用的显示器要求非常精细(像素数:400ppi以上)。未来，面向移动终端将被要求使用ultra high difinision(UHD，超高清分辨率)，并且预计将要求更高精细(像素数:800ppi)的OLED面板。OLED面板制造中需要使用蒸镀掩模，为了对应OLED面板的高精细化，蒸镀掩模也需要高精细化，采用厚度更小的蒸镀掩模有利于提高精细化。

蒸镀掩模通常由金属卷材在其上表面和下表面分两次相向刻蚀形成，且贯通孔尺寸由两次刻蚀中形成的最小尺寸决定。参见图1，现有的刻蚀方法中，当金属卷材的厚度大于40um时，第一次刻蚀的刻蚀量较大，其形成的第一凹部的悬挂尺寸t比开孔尺寸s大。参见图2，只需控制第二次刻蚀的刻蚀量，使得X处的开孔尺寸大于或等于第一次刻蚀的开孔尺寸s，即可保证第一次刻蚀时的开孔尺寸s为贯通孔尺寸u，现有方法易于实现第一次刻蚀和第二次刻蚀的参数控制。参见图3，当金属卷材的厚度为40um或更小的厚度时，现有技术的方法容易蚀穿金属卷材，导致工艺失效。同时，现有的刻蚀方法，在金属卷材厚度大于40um时，图2中的金属卷材上表面Y至贯通孔的X的截面高度v控制在6um即可，但在金属卷材的厚度小于或等于40um时，上述截面高度v需要控制在4um以下，现有刻蚀方法的第二次刻蚀难以实现该精度。因此，有必要提供一种在金属卷材厚度T不大于40um的情况下避免第一次刻蚀直接蚀穿金属卷材的蒸镀掩模制造方法。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种蒸镀掩模、蒸镀掩模组件、蒸镀掩模装置、有机显示装置及蒸镀掩模的制造方法和实现蒸镀掩模制造方法的制造装置，以解决蒸镀掩模制造过程中，当金属卷材厚度不大于40um时容易第一次刻蚀蚀穿金属卷材的问题。

本发明的技术方案如下：一种蒸镀掩模制造方法，所述蒸镀掩模在蒸镀材料向蒸镀基板的蒸镀中被使用，所述蒸镀掩模包括：

第一面侧，其构成所述蒸镀掩模面对所述蒸镀基板的一侧；

第二面侧，其构成所述蒸镀掩模与所述第一面侧相反的一侧；及

贯通孔，其贯穿所述第一面侧与所述第二面侧，

其特征在于，该方法包括步骤：

提供一包括上表面及与上表面相对的下表面的金属卷材，所述金属卷材的厚度T满足关系式：5um≤T≤40um；

分别在所述金属卷材的上表面及下表面真空贴合干膜光阻，通过曝光显影将所述干膜光阻图案化；

通过图案化的所述干膜光阻刻蚀所述上表面形成第一面侧，所述第一面侧至少包括若干第一凹部，所述第一凹部包括第一开口及第一刻蚀面，所述第一开口与所述上表面平齐，所述第一刻蚀面为自所述第一开口向所述下表面凹陷形成的面；

在所述第一面侧真空贴合树脂以填埋所述第一凹部；